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Síntese e análise microbiológica de substratos poliméricos recobertos com filmes ultra-finos de TiO2 e/ou Al2O3 pela tecnologia de deposição por camada atômica

Processo: 18/01265-1
Linha de fomento:Auxílio à Pesquisa - Regular
Vigência: 01 de maio de 2018 - 30 de junho de 2020
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia Biomédica
Pesquisador responsável:Rodrigo Savio Pessoa
Beneficiário:Rodrigo Savio Pessoa
Instituição-sede: Universidade Brasil. Campus São Paulo. São Paulo , SP, Brasil
Pesq. associados:Bruno Vinícius Manzolli Rodrigues ; Gilberto Petraconi ; Homero Santiago Maciel ; Mariana Amorim Fraga ; Silvia Cristina Núñez ; William Chiappim Junior
Assunto(s):Óxido de alumínio  Polímeros  Filmes finos  Dióxido de titânio  Microbiologia 

Resumo

A deposição por camada atômica (atomic layer deposition - ALD) tem demonstrado ser uma tecnologia atraente para depositar filmes finos para muitas aplicações avançadas, da nanotecnologia à biomedicina. Este projeto de pesquisa visa investigar o crescimento e as propriedades de filmes ultra-finos de dióxido de titânio (TiO2) e/ou óxido de alumínio (Al2O3) depositados pela técnica ALD sobre substratos de poliuretano (PU), polidimetilsiloxano (PDMS) e cloreto de polivinil (PVC), e discutir seu efeito sobre o crescimento e o processo de inativação, em caso de contaminação, da levedura Candida albicans. Estes substratos são frequentemente utilizados na síntese de dispositivos médico-hospitalares, como cateteres de longo período de uso, que podem ser suscetíveis a contaminação microbiológica. Para isso, ensaios físico, químico e microbiológicos serão realizados. No processo de ALD do filme de TiO2, TiCl4 e H2O serão usados como precursores, enquanto que para o filme de Al2O3, serão utilizados os precursores Al(CH3)3 e H2O. Todos os processos serão realizados a uma temperatura fixada em 80ºC, enquanto o número de ciclos de reação para crescimento dos filmes será variado de 500 a 2000. Será também investigado o efeito da inserção de nanocamadas de Al2O3 no filme de TiO2, formando assim a estrutura de nanolaminato. Para análise microbiológica, leveduras de cepas padrão de C. albicans (ATCC 10231) serão cultivadas em substratos não recobertos e recobertos com TiO2 e/ou Al2O3, e depois as atividades antifúngicas e fotocatalíticas destes serão investigadas através do método de contagem de unidades formadoras de colônias (CFU) antes e após o tratamento com luz ultravioleta. Para avaliar a cinética de crescimento, a composição elementar, a estrutura do material, as ligações químicas, o ângulo de contato, o trabalho de adesão e a morfologia da superfície dos filmes finos, serão utilizadas diversas técnicas químicas, físicas e físico-químicas de caracterização de materiais. Por fim, é proposto o desenvolvimento/construção de um reator ALD tipo fluxo-cruzado, uma vez que o proponente adquiriu, nestes últimos anos, um "know-how" suficiente em uma máquina ALD comercial (Beneq TFS-200, projeto FAPESP/PRONEX 2011/50773-0). Este equipamento será desenvolvido considerando um futuro tratamento de substratos tridimensionais como cateteres. (AU)

Matéria(s) publicada(s) na Agência FAPESP sobre o auxílio:
Pesquisadores produzem material nanoestruturado com potencial de uso em catalisadores e filtros 
Matéria(s) publicada(s) em Outras Mídias (20 total):
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Science and Technology Research News (EUA): Nanostructured Material with Potential for Use in Catalyzers (25/Set/2019)
Green Area (Líbano): Crean un material nanoestructurado con potencial de uso en catalizadores (05/Set/2019)
NCYT Amazings (Espanha): Crean un material nanoestructurado con potencial de uso en catalizadores (04/Set/2019)
Infomediatico: Crean un material nanoestructurado con potencial de uso en catalizadores (04/Set/2019)
Deuxieme (Holanda): Nanostructured material with potential for use in catalyzers (03/Set/2019)
Energy Metal News: Nanostructured Material with Potential for Use in Catalyzers (31/Ago/2019)
ItzaGoal365 Space Discussions (EUA): Nanostructured Material with Potential for Use in Catalyzers (31/Ago/2019)
The Latest Today: Nanostructured Material with Potential for Use in Catalyzers (31/Ago/2019)
Nanowerk (EUA): Nanostructured material with potential for use in catalyzers (30/Ago/2019)
Agenparl (Itália): Nanostructured material with potential for use in catalyzers (29/Ago/2019)
Phys.Org (Reino Unido): Nanostructured material with potential for use in catalyzers (29/Ago/2019)
Scienmag Science Magazine (Reino Unido): Nanostructured Material With Potential For Use In Catalyzers (29/Ago/2019)
Long Room (EUA): Nanostructured material with potential for use in catalyzers (29/Ago/2019)
7thSpace: Nanostructured material with potential for use in catalyzers (29/Ago/2019)
Science Edition (EUA): Nanostructured Material with Potential for Use in Catalyzers (29/Ago/2019)
Science Codex: Nanostructured material with potential for use in catalyzers (29/Ago/2019)
CIMM - Centro de Informação Metal Mecânica: Pesquisadores produzem material nanoestruturado com potencial de uso em catalisadores e filtros (08/Ago/2019)
2A+ Farma: Pesquisadores produzem material nanoestruturado com potencial de uso em catalisadores e filtros (08/Ago/2019)
Espaço Ecológico no Ar: Pesquisadores produzem material nanoestruturado com potencial de uso em catalisadores e filtros (07/Ago/2019)
Revista Amazônia: Material nanoestruturado com potencial de uso em catalisadores e filtros é produzido por pesquisadores do ITA e UB (06/Ago/2019)

Publicações científicas (7)
(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)
DE SOUZA, P. R. F.; SOUZA, G. C. C.; PINTO, J. V. F. A.; DORIA, A. C. O. C.; NASCIMENTO, L. M.; GOMES, M. C.; DA SILVA SOBRINHO, A. S.; PETRACONI, G.; SAGAS, J. C.; RODRIGUES, B. V. M.; PESSOA, RODRIGO SAVIO. Effect of Ozone Exposure on Water Uptake and Germination of Lentil (Lens Culinaris) Seeds. OZONE-SCIENCE & ENGINEERING, APR 2020. Citações Web of Science: 0.
JUNIOR, ARMSTRONG GODOY; PEREIRA, ANDRE; GOMES, MARCILENE; FRAGA, MARIANA; PESSOA, RODRIGO; LEITE, DOUGLAS; PETRACONI, GILBERTO; NOGUEIRA, ADAILTON; WENDER, HEBERTON; MIYAKAWA, WALTER; MASSI, MARCOS; SOBRINHO, ARGEMIRO DA SILVA. Black TiO2 Thin Films Production Using Hollow Cathode Hydrogen Plasma Treatment: Synthesis, Material Characteristics and Photocatalytic Activity. CATALYSTS, v. 10, n. 3 MAR 2020. Citações Web of Science: 0.
CHIAPPIM, WILLIAM; WATANABE, MARCOS; DIAS, VANESSA; TESTONI, GIORGIO; RANGEL, RICARDO; FRAGA, MARIANA; MACIEL, HOMERO; DOS SANTOS FILHO, SEBASTIAO; PESSOA, RODRIGO. MOS Capacitance Measurements for PEALD TiO2 Dielectric Films Grown under Different Conditions and the Impact of Al2O3 Partial-Monolayer Insertion. NANOMATERIALS, v. 10, n. 2 FEB 2020. Citações Web of Science: 0.
GALVAO, NIERLLY; GUERINO, MARCIEL; CAMPOS, TIAGO; GRIGOROV, KORNELI; FRAGA, MARIANA; RODRIGUES, BRUNO; PESSOA, RODRIGO; CAMUS, JULIEN; DJOUADI, MOHAMMED; MACIEL, HOMERO. The Influence of AlN Intermediate Layer on the Structural and Chemical Properties of SiC Thin Films Produced by High-Power Impulse Magnetron Sputtering. MICROMACHINES, v. 10, n. 3 MAR 22 2019. Citações Web of Science: 0.
DIAS, VANESSA; MACIEL, HOMERO; FRAGA, MARIANA; LOBO, ANDERSON O.; PESSOA, RODRIGO; MARCIANO, FERNANDA R. Atomic Layer Deposited TiO2 and Al2O3 Thin Films as Coatings for Aluminum Food Packaging Application. MATERIALS, v. 12, n. 4 FEB 2 2019. Citações Web of Science: 1.
TONELI, D. A.; PESSOA, R. S.; ROBERTO, M.; GUDMUNDSSON, J. T. A global model study of low pressure high density CF4 discharge. PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY, v. 28, n. 2 FEB 2019. Citações Web of Science: 1.
GALVAO, NIERLLY; VASCONCELOS, GETULIO; PESSOA, RODRIGO; MACHADO, JOAO; GUERINO, MARCIEL; FRAGA, MARIANA; RODRIGUES, BRUNO; CAMUS, JULIEN; DJOUADI, ABDOU; MACIEL, HOMERO. A Novel Method of Synthesizing Graphene for Electronic Device Applications. MATERIALS, v. 11, n. 7 JUL 2018. Citações Web of Science: 1.

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