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Síntese e análise microbiológica de substratos poliméricos recobertos com filmes ultra-finos de TiO2 e/ou Al2O3 pela tecnologia de deposição por camada atômica

Processo: 18/01265-1
Linha de fomento:Auxílio à Pesquisa - Regular
Vigência: 01 de maio de 2018 - 30 de abril de 2020
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia Biomédica
Pesquisador responsável:Rodrigo Savio Pessoa
Beneficiário:Rodrigo Savio Pessoa
Instituição-sede: Universidade Brasil. Campus São Paulo. São Paulo , SP, Brasil
Pesq. associados:Bruno Vinícius Manzolli Rodrigues ; Gilberto Petraconi ; Homero Santiago Maciel ; Mariana Amorim Fraga ; Silvia Cristina Núñez ; William Chiappim Junior
Assunto(s):Óxido de alumínio  Polímeros  Filmes finos  Dióxido de titânio  Microbiologia 

Resumo

A deposição por camada atômica (atomic layer deposition - ALD) tem demonstrado ser uma tecnologia atraente para depositar filmes finos para muitas aplicações avançadas, da nanotecnologia à biomedicina. Este projeto de pesquisa visa investigar o crescimento e as propriedades de filmes ultra-finos de dióxido de titânio (TiO2) e/ou óxido de alumínio (Al2O3) depositados pela técnica ALD sobre substratos de poliuretano (PU), polidimetilsiloxano (PDMS) e cloreto de polivinil (PVC), e discutir seu efeito sobre o crescimento e o processo de inativação, em caso de contaminação, da levedura Candida albicans. Estes substratos são frequentemente utilizados na síntese de dispositivos médico-hospitalares, como cateteres de longo período de uso, que podem ser suscetíveis a contaminação microbiológica. Para isso, ensaios físico, químico e microbiológicos serão realizados. No processo de ALD do filme de TiO2, TiCl4 e H2O serão usados como precursores, enquanto que para o filme de Al2O3, serão utilizados os precursores Al(CH3)3 e H2O. Todos os processos serão realizados a uma temperatura fixada em 80ºC, enquanto o número de ciclos de reação para crescimento dos filmes será variado de 500 a 2000. Será também investigado o efeito da inserção de nanocamadas de Al2O3 no filme de TiO2, formando assim a estrutura de nanolaminato. Para análise microbiológica, leveduras de cepas padrão de C. albicans (ATCC 10231) serão cultivadas em substratos não recobertos e recobertos com TiO2 e/ou Al2O3, e depois as atividades antifúngicas e fotocatalíticas destes serão investigadas através do método de contagem de unidades formadoras de colônias (CFU) antes e após o tratamento com luz ultravioleta. Para avaliar a cinética de crescimento, a composição elementar, a estrutura do material, as ligações químicas, o ângulo de contato, o trabalho de adesão e a morfologia da superfície dos filmes finos, serão utilizadas diversas técnicas químicas, físicas e físico-químicas de caracterização de materiais. Por fim, é proposto o desenvolvimento/construção de um reator ALD tipo fluxo-cruzado, uma vez que o proponente adquiriu, nestes últimos anos, um "know-how" suficiente em uma máquina ALD comercial (Beneq TFS-200, projeto FAPESP/PRONEX 2011/50773-0). Este equipamento será desenvolvido considerando um futuro tratamento de substratos tridimensionais como cateteres. (AU)

Matéria(s) publicada(s) na Agência FAPESP sobre o auxílio:
Pesquisadores produzem material nanoestruturado com potencial de uso em catalisadores e filtros 
Matéria(s) publicada(s) em Outras Mídias (19 total):
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Nanostructured Material with Potential for Use in Catalyzers 
Crean un material nanoestructurado con potencial de uso en catalizadores 
Crean un material nanoestructurado con potencial de uso en catalizadores 
Crean un material nanoestructurado con potencial de uso en catalizadores 
Nanostructured material with potential for use in catalyzers 
Nanostructured Material with Potential for Use in Catalyzers 
Nanostructured Material with Potential for Use in Catalyzers 
Nanostructured Material with Potential for Use in Catalyzers 
Nanostructured material with potential for use in catalyzers 
Nanostructured material with potential for use in catalyzers 
Nanostructured material with potential for use in catalyzers 
Nanostructured material with potential for use in catalyzers 
Nanostructured Material With Potential For Use In Catalyzers 
Nanostructured material with potential for use in catalyzers 
Nanostructured material with potential for use in catalyzers 
Pesquisadores produzem material nanoestruturado com potencial de uso em catalisadores e filtros 
Pesquisadores produzem material nanoestruturado com potencial de uso em catalisadores e filtros 
Pesquisadores produzem material nanoestruturado com potencial de uso em catalisadores e filtros 
Material nanoestruturado com potencial de uso em catalisadores e filtros é produzido por pesquisadores do ITA e UB 

Publicações científicas (4)
(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)
GALVAO, NIERLLY; GUERINO, MARCIEL; CAMPOS, TIAGO; GRIGOROV, KORNELI; FRAGA, MARIANA; RODRIGUES, BRUNO; PESSOA, RODRIGO; CAMUS, JULIEN; DJOUADI, MOHAMMED; MACIEL, HOMERO. The Influence of AlN Intermediate Layer on the Structural and Chemical Properties of SiC Thin Films Produced by High-Power Impulse Magnetron Sputtering. MICROMACHINES, v. 10, n. 3 MAR 22 2019. Citações Web of Science: 0.
DIAS, VANESSA; MACIEL, HOMERO; FRAGA, MARIANA; LOBO, ANDERSON O.; PESSOA, RODRIGO; MARCIANO, FERNANDA R. Atomic Layer Deposited TiO2 and Al2O3 Thin Films as Coatings for Aluminum Food Packaging Application. MATERIALS, v. 12, n. 4 FEB 2 2019. Citações Web of Science: 1.
TONELI, D. A.; PESSOA, R. S.; ROBERTO, M.; GUDMUNDSSON, J. T. A global model study of low pressure high density CF4 discharge. PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY, v. 28, n. 2 FEB 2019. Citações Web of Science: 1.
GALVAO, NIERLLY; VASCONCELOS, GETULIO; PESSOA, RODRIGO; MACHADO, JOAO; GUERINO, MARCIEL; FRAGA, MARIANA; RODRIGUES, BRUNO; CAMUS, JULIEN; DJOUADI, ABDOU; MACIEL, HOMERO. A Novel Method of Synthesizing Graphene for Electronic Device Applications. MATERIALS, v. 11, n. 7 JUL 2018. Citações Web of Science: 1.

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