Busca avançada
Ano de início
Entree

Caracterização de Filmes Finos Complexos Obtidos por PECVD e a Deposição de Filmes Finos em Substratos Porosos

Resumo

Camadas protetoras, hidrofóbicas, auto-limpantes e transparentes podem ser aplicadas em vidro usado em janelas. Assim, o vidro tratado é protegido, e sujeira na forma de particulados ou outros detritos tende a ser levado embora, por exemplo, por gotas de água de chuva, que correm na superfície vertical sob a ação de gravidade. Para tais funções a camada protetora deve ter boa aderência, resistência mecânica, hidrofobicidade e transparência na parte visível do espectro eletromagnético. Os métodos usuais para a produção de tais filmes envolvem a manipulação de diversas reagentes químicas e levam alguns dias. O método de PECVD é mais rápido, limpo e eficiente do que estes métodos. Filmes finos do tipo a-C:H:Si:O:N e a-C:H:Si:F:N, possuem potencial como camadas autolimpantes. Consequentemente, um vertente deste plano é a produção e caracterização de filmes deste tipo. A hidrofobicidade das superfícies dos filmes será avaliada a partir de medidas de ângulo de contato estático, de avanço e de recuo. Suas estequiometrias e estruturas químicas serão estudadas empregando Espectroscopia no Infravermelho (IRS) e Espectroscopia de Fotoelétrons de Raios-X (XPS), e Espectroscopia por Dispersão de Energia de Raios-X (EDS). Rugosidade será medida por Perfilometria, Microscopia de Forca Atômica (AFM) ou ambos. Morfologia superficial será estudada usando Microscopia Eletrônica de Varredura (MEV). Propriedades ópticas e mecânicas serão delineadas a partir de medidas obtidas por Espectroscopia no Ultravioleta-Visível Infravermelho Próximo (UVS) e Nano-indentação, respectivamente. Estas propriedades serão investigadas em função da pressão parcial de N2, O2 e SF6 na alimentação, designada PN, PO e PS, respectivamente. Numa segunda linha de pesquisa, o PECVD e o sputtering de filmes a-C:H:Si:O:N, a-C:H:Si:F:N e similares em substratos com graus diferentes de porosidade serão estudados. Falta verificar o tamanho de poro mínimo em que é possível depositar material a plasma e elucidar sua dependência nos parâmetros de deposição (pressão, potência aplicada, etc.). Além destes estudos fundamentais, o PECVD será comparado com sputtering de alvos de polímeros como politetrafluoroetileno (PTFE) e silicone para a produção de filmes a-C:H:Si:O:N, a-C:H:Si:F:N e similares. Para os mesmos materiais substratos porosos de aço inoxidável, bronze ou polímeros convencionais, podem servir como andaimes para material auto-limpante. Uma outra aplicação de filmes contendo silício depositado em substratos porosos é como uma camada antirreflexo. A possibilidade de depositar prata por sputtering em estruturas porosas para agir como barreiras anti-bacteriana também será investigada. (AU)

Publicações científicas (4)
(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)
MANOSSO AMORIM, MILENA KOWALCZUK; RANGEL, ELIDIANE CIPRIANO; LANDERS, RICHARD; DURRANT, STEVEN F. Effects of cold SF6 plasma treatment on a-C:H, polypropylene and polystyrene. SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, v. 385, MAR 15 2020. Citações Web of Science: 0.
RAUL RAMOS; MARCIO PERON FRANCO DE GODOY; ELIDIANE CIPRIANO RANGEL; NILSON CRISTINO DA CRUZ; STEVEN F. DURRANT; JOSÉ ROBERTO RIBEIRO BORTOLETO. Co-doped p-type ZnO:Al-N Thin Films Grown by RF-Magnetron Sputtering at Room Temperature. MATERIALS RESEARCH-IBERO-AMERICAN JOURNAL OF MATERIALS, v. 23, n. 3, p. -, 2020.
L. P. G. OLIVEIRA; R. RAMOS; W. H. RABELO; E. C. RANGEL; STEVEN F. DURRANT; J. R. R. BORTOLETO. Comparison of RF and Pulsed Magnetron Sputtering for the Deposition of AZO Thin Films on PET. MATERIALS RESEARCH-IBERO-AMERICAN JOURNAL OF MATERIALS, v. 23, n. 3, p. -, 2020. Citações Web of Science: 0.
DE OLIVEIRA NETO, ANTONIO M.; SCHREINER, WIDO H.; JUSTO, JOAO F.; DE OLIVEIRA, ALEXANDRE M.; RANGEL, ELIDIANE C.; DURRANT, STEVEN F. Characterization of amorphous carbon films by PECVD and plasma ion implantation: The role of fluorine and sulfur doping. Materials Chemistry and Physics, v. 227, p. 170-175, APR 1 2019. Citações Web of Science: 0.

Por favor, reporte erros na lista de publicações científicas escrevendo para: cdi@fapesp.br.