Equipamento multiusuário concedido no processo 2012/50259-8 : equipamento de corrosão por íons reativos

• Processo: 18/23377-6
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Programa Equipamentos Multiusuários
• Data de Início da vigência: 01 de dezembro de 2018
• Data de Término da vigência: 30 de novembro de 2025
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Medidas Elétricas, Magnéticas e Eletrônicas, Instrumentação
• Pesquisador responsável: Eunezio Antonio De Souza
• Beneficiário: Eunezio Antonio De Souza
• Instituição Sede: Instituto Mackenzie de Pesquisas em Grafeno e Nanotecnologias. Universidade Presbiteriana Mackenzie (UPM). Instituto Presbiteriano Mackenzie. São Paulo , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 12/50259-8 - Grafeno: fotônica e opto-eletrônica: colaboração UPM-NUS, AP.SPEC
• Assunto(s): Fotônica Microfabricação Dispositivos ópticos Dispositivos eletrônicos Deposição de filmes finos
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: dispositivos fotônicos | Fotônica do Silício | Micro fabricação | Fotônica
• Página web do EMU: https://www.mackenzie.br/mackgraphe/laboratorio-multiusuario
• Tipo de equipamento: Processos Físicos - Modificação superfícies – etching - Feixes iônicos
• Fabricante: Reactive Ion-Etcher (RIE)
• Modelo: Reactive Ion-Etcher (RIE)

Resumo

Este equipamento permite a fabricação de dispositivos eletro-ópticos utilizando técnica de deposição de filmes finos de espessura atômica. Com ele será possível depositar camadas dielétricas da ordem de alguns nanômetros em estruturas capacitivas baseadas em materiais bidimensionais. (AU)