Melhoramento das propriedades superficiais de componentes de uso industrial por implantação iônica tridimensional

• Processo: 99/06961-3
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Pesquisa Inovativa em Pequenas Empresas - PIPE
• Data de Início da vigência: 01 de fevereiro de 2000
• Data de Término da vigência: 31 de maio de 2004
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física dos Fluídos, Física de Plasmas e Descargas Elétricas
• Pesquisador responsável: Mario Ueda
• Beneficiário: Mario Ueda
• Empresa: Metrolab Calibrações Ltda. - EPP
• Município: São José dos Campos
• Bolsa(s) vinculada(s): 01/05127-1 - Melhoramento das propriedades superficiais de componentes de uso industrial por implantação iônica tridimensional, BP.TT; 99/11306-4 - Melhoramento das propriedades superficiais de componentes de uso industrial por implantação iônica tridimensional, BP.PIPE
• Assunto(s): Plasma (microeletrônica)
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Tecnologia De Plasma

Resumo

Tendo obtido resultados relevantes em um experimento de implantação iônica por imersão em plasma (IIIP), tenta-se viabilizar a utilização desse método em algumas indústrias instaladas no estado. A implantação iônica (II) é um método de tratamento superficial de grande impacto na área de novos materiais e tem sido empregada em algumas indústrias de ponta. O principal fator limitante desse processo para aplicações industriais mais generalizadas, porém, é o seu caráter de implantação com linha-de-visão, que dificulta ou impossibilita tratamentos tridimensionais de peças de geometria complexa, a baixo custo. Por seu lado, a implantação iônica por imersão em plasma (IIIP) vem abrindo novas fronteiras e oportunidades de aplicação industrial. Esse processamento tira vantagem da implantação sem linha-de-visão e da possibilidade de ser independente da área a ser tratada. Na primeira fase procurou-se desenvolver uma parte do equipamento HIP (Inpe/Metrolab) referente à fonte de plasma de alto desempenho, por meio da utilização de um sistema de vácuo de alta eficiência e fonte de descarga glow com potencial controlado. Na segunda deve-se construir uma nova câmara de vácuo e integrar o sistema com um pulsador de alta tensão com alta taxa de repetição e outros equipamentos adequados. (AU)

Publicações científicas

(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)

UEDA‚ M.; BERNI‚ LA; CASTRO‚ RM. Application of plasma immersion ion implantation for improved performance of tools and industrial components. SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, v. 200, n. 1, p. 517-520, 2005. (99/06961-3)