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Processos de fabricação micromecânica em semicondutores

Processo: 95/01493-0
Linha de fomento:Auxílio à Pesquisa - Regular
Vigência: 01 de junho de 1995 - 31 de dezembro de 1998
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
Pesquisador responsável:José Roberto Sbragia Senna
Beneficiário:José Roberto Sbragia Senna
Instituição-sede: Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE). Ministério da Ciência, Tecnologia, Inovações e Comunicações (Brasil). São José dos Campos , SP, Brasil
Assunto(s):Semicondutores  Microeletrônica  Silício 

Resumo

Pesquisa experimental em processos de fabricação micromecânica. Serão realizados experimentos visando elucidar aspectos científicos e práticos de: - corrosão anisotrópica do silício em solução de KOH e de (CH3)H N OH; - deposição de vidros sobre Si por sputtering e evaporação; adesão silício-silício com camada intermediária de vidro depositário; adesão silício-silício com camada intermediária de SiO2 térmico; adesão silício-silício com camada intermediária de Si3NH CVD; adesão silício (outros semicondutores), adesão silício-vidro; - dopagem de silício com gálio. (AU)