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Filmes finos de LixNiOy e LixNiMeyOz (Me=Mn ou Co) para aplicações em dispositivos eletroquímicos

Processo: 99/11126-6
Linha de fomento:Auxílio à Pesquisa - Regular
Vigência: 01 de março de 2000 - 31 de janeiro de 2002
Área do conhecimento:Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
Pesquisador responsável:Annette Gorenstein
Beneficiário:Annette Gorenstein
Instituição-sede: Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
Assunto(s):Filmes finos  Microbaterias  Dispositivos eletroquímicos 

Resumo

O projeto propõe o estudo de materiais que, na forma bulk, têm sido extensivamente pesquisados, mas na forma de filmes finos, pouco constam na literatura. Os materiais propostos são o óxido de níquel litiado (LixNiOy) e óxidos mistos litiados (LixNiMeyOz, Me= Mn ou Co). As condições de deposição dos filmes serão variadas de forma programada, de modo a produzir materiais com diferentes composições e estruturas. As propriedades relevantes dos filmes serão estudadas com técnicas apropriadas; estas características e metodologias são descritas no corpo do presente projeto. O comportamento dos materiais como catodos em microbaterias e como componente eletroativo em dispositivos eletrocrômicos serão levantados. O objetivo do projeto é duplo: (1) Desenvolver materiais com características otimizadas (2) Estudar a estrutura cristalina de curto e longo alcance, e a estrutura eletrônica (níveis de caroço e banda de Valencia) dos compostos as-grown e delitiados em diferentes graus, de modo a contribuir para o entendimento dos mecanismos básicos decorrentes do processo de intercalação/deintercalação. (AU)

Publicações científicas
(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)
URBANO‚ A.; FERREIRA‚ FF; DECASTRO‚ SC; LANDERS‚ R.; FANTINI‚ MCA; GORENSTEIN‚ A. Electrochromism in lithiated nickel oxide films deposited by rf sputtering. Electrochimica Acta, v. 46, n. 13, p. 2269-2273, 2001.

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