Busca avançada
Ano de início
Entree

Desenvolvimento de dispositivos ópticos utilizando compostos de silício

Processo: 07/00775-1
Linha de fomento:Auxílio à Pesquisa - Regular
Vigência: 01 de julho de 2007 - 30 de setembro de 2009
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia Elétrica - Circuitos Elétricos, Magnéticos e Eletrônicos
Pesquisador responsável:Marco Isaías Alayo Chávez
Beneficiário:Marco Isaías Alayo Chávez
Instituição-sede: Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
Assunto(s):Dispositivos ópticos  Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD)  Silício 

Resumo

Este projeto de pesquisa pretende dar continuidade ao trabalho de desenvolvimento e caracterização de dispositivos ópticos, termo-ópticos, eletro-ópticos e mecano-ópticos usando compostos de silício depositados pela Técnica de Deposição química assistida por plasma (PECVD). Este trabalho vem sendo desenvolvido dentro do departamento de Engenharia de Sistemas Eletrônicos da Escola Politécnica da Universidade de São Paulo. Basicamente, o projeto consiste na simulação, fabricação e caracterização de dispositivos ópticos como: guias de onda convencionais e ARROW, Sensor termo-óptico usando interferômetro Mach-Zehnder, filtros interferenciais baseados em compostos de silício e portas ópticas digitais baseadas em cantilevers termo-mecânicos. (AU)

Publicações científicas
(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)
MELO, EMERSON G.; ALAYO, MARCO I.; CARVALHO, DANIEL O. Study of the pedestal process for reducing sidewall scattering in photonic waveguides. Optics Express, v. 25, n. 9, p. 9755-9760, MAY 1 2017. Citações Web of Science: 3.

Por favor, reporte erros na lista de publicações científicas escrevendo para: cdi@fapesp.br.