EMU: gerador de padrões ópticos para máscaras litográficas e escrita direta

• Processo: 09/54045-0
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Programa Equipamentos Multiusuários
• Vigência: 01 de agosto de 2010 - 31 de outubro de 2013
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Medidas Elétricas, Magnéticas e Eletrônicas, Instrumentação
• Pesquisador responsável: Roberto Ricardo Panepucci
• Beneficiário: Roberto Ricardo Panepucci
• Instituição Sede: Centro de Pesquisas Renato Archer (CENPRA). Ministério da Ciência, Tecnologia e Inovações (Brasil). Campinas , SP, Brasil
• Assunto(s): Fotônica Microeletrônica Nanotecnologia Litografia (processos de impressão) Sensores químicos Escrita
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Fotonica | Litografia | Mems | Microeletronica | Nanotecnologia | Sensores E Redes De Sensores
• Publicação FAPESP: https://media.fapesp.br/bv/uploads/publicacoes/emu_eng_23.pdf
• Página web do EMU: Página do Equipamento Multiusuário não informada
• Tipo de equipamento: Tipo de Equipamento Multiusuário não informado
• Fabricante: Fabricante não informado
• Modelo: Modelo não informado

Resumo

Este projeto visa à aquisição de um sistema para a geração de padrões para a produção de estruturas aplicadas a novos dispositivos nano- e micro-metricos. Trata de uma lacuna que existe na área no Brasil, que atualmente exige a importação de máscaras, e impossibilita a produção de dispositivos por escrita direta de certos dispositivos. Os projetos associados têm os seguintes objetivos: Instituto Nacional de Ciência e Tecnologia, denominado NAMITEC, aborda o tema de microeletrônica e nanoeletrônica dentro da área de tecnologias de informação e comunicação. NAMITEC aborda o tema de forma ampla, incluindo aplicações de redes de sensores sem fio, projeto de circuitos integrados, desenvolvimento de ferramentas de auxílio a projeto - EDA, desenvolvimento de dispositivos semicondutores, sobretudo microssensores e materiais e técnicas para fabricação de dispositivos. Materiais Fotossensíveis e Aplicações - objetiva coordenar atividades de pesquisa centradas nos materiais fotossensíveis para nos aprofundar no conhecimento dos mecanismos e processos que permitem o registro da luz nesses materiais, utilizar esses conhecimentos para aprimorar o desempenho dos materiais, quando isso for possível e desenvolver aplicações tais como processamento de imagens e sinais, medida de vibrações, etc., assim como a fabricação de componentes ópticos difrativos e micro e/ou nanoestruturas bi- ou tri-dimensionais. Propagação de Ondas Eletromagnéticas em Estruturas Complexas - Produzir estruturas baseadas em materiais artificiais, onde se incluem os metamateriais, e materiais complexos para a produção de plasmons de superfície (SPP), particularmente, a investigação de aplicações de transparência eletromagnética (cloaking). No caso de SPP, o que se pretende é a investigação de nanoestruturas para aplicações em sensoriamento e comunicações ópticas. (AU)

Publicações científicas

(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)

MALHEIROS-SILVEIRA, GILLIARD N.; FINARDI, CELIO A.; BURGER, TALITA S.; VAN ETTEN, ELIANA A. M. A.; DA SILVA, RICARDO C. G.; COELHO, ARTUR V. P.; DALTRINI, ANDRE M.; PANEPUCCI, ROBERTO R.. High-resolution notch filters and diplexers based on SU-8 inverted rib waveguides. APPLIED OPTICS, v. 58, n. 27, p. 7331-7335, SEP 20 2019. (09/54045-0, 13/07559-3)

RAMIREZ, JHONATTAN C.; SCHIANTI, JULIANA N.; SOUTO, DENIO E. P.; KUBOTA, LAURO T.; HERNANDEZ-FIGUEROA, HUGO E.; GABRIELLI, LUCAS H.. Dielectric barrier discharge plasma treatment of modified SU-8 for biosensing applications. BIOMEDICAL OPTICS EXPRESS, v. 9, n. 5, p. 2168-2175, MAY 1 2018. (08/57857-2, 09/54045-0)