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Desenvolvimento de sistemas de plasma para deposição de filmes de carbono tipo diamante (Diamond Like Carbon - DLC)

Processo: 00/09138-5
Linha de fomento:Auxílio à Pesquisa - Regular
Vigência: 01 de fevereiro de 2001 - 31 de janeiro de 2004
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
Pesquisador responsável:Ronaldo Domingues Mansano
Beneficiário:Ronaldo Domingues Mansano
Instituição-sede: Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
Assunto(s):Deposição de filmes finos  Filmes finos de carbono tipo diamante (DLC)  Deposição química por vapor CVD  Pulverização catódica  Dielétricos 

Resumo

Neste trabalho estamos desenvolvendo dois sistemas de deposição por plasma de filmes de carbono tipo diamante. O primeiro é um equipamento de sputtering (espirramento catódico) reativo que utiliza um alvo de grafite e gases tipo CH4, CF4, H2 e Ar, para depositar filmes de carbono amorfo hidrogenado e carbono amorfo fluorinado. O segundo sistema é um equipamento de deposição química tipo CVD (Chemical Vapour Deposition), que utiliza plasma de alta densidade. Neste sistema podemos depositar não somente filmes de carbono, como também filmes de nitreto de silício e óxido de silício, porém o objetivo principal são os filmes de carbono tipo diamante. Para a deposição dos filmes de carbono vamos utilizar CH4. CF 4, H2, 02 e estudar a dopagem do filme com N2 e com silício. Os filmes de carbono são bastante interessantes tanto para aplicações em microeletrônica como dielétricos e semicondutores e em outras áreas como material anti-desgaste, material duro, é biocompátivel e pode ser usado como guia de ondas e filtros-ópticos. (AU)