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Estudo de materiais fotossensíveis utilizando técnicas holográficas

Processo: 97/13231-6
Linha de fomento:Auxílio à Pesquisa - Apoio a Jovens Pesquisadores
Vigência: 01 de abril de 1998 - 31 de maio de 2002
Área do conhecimento:Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
Pesquisador responsável:Agnaldo Aparecido Freschi
Beneficiário:Agnaldo Aparecido Freschi
Instituição-sede: Instituto de Geociências e Ciências Exatas (IGCE). Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus de Rio Claro. Rio Claro , SP, Brasil
Bolsa(s) vinculada(s):00/05153-0 - Estudo de microvibracoes através da interferometria óptica, BP.IC
00/00031-3 - Gravação de hologramas em montagens ópticas ativamente estabilizadas, BP.IC
98/03103-3 - Estudo de materiais fotossensíveis utilizando técnicas holográficas, BP.JP
Assunto(s):Holografia  Interferômetros  Difração da luz 
Publicação FAPESP:http://media.fapesp.br/bv/uploads/pdfs/Investindo...pesquisadores_254_196_196.pdf

Resumo

O objetivo principal deste projeto é a formação de uma linha de pesquisa voltada para o estudo dos materiais fotossensíveis e suas aplicações. O plano de trabalho proposto prevê Inicialmente o estudo de cristais fotorrefrativos de LiNbO3 e Bi12TiO20, atualmente crescidos pela USP/São Carlos. Esses cristais despertam grande interesse no desenvolvimento de memórias ópticas e processamento de imagens. Em linhas gerais, a pesquisa visa responder questões ligadas à natureza dos centros doadores e receptores de cargas livres nesses materiais, bem como estudar as propriedades de hologramas gravados por padrões de luz em movimento. Além desses cristais, outros materiais fotossensíveis poderão ser estudados, dependendo da disponibilidade e interesse acadêmico e tecnológico. (AU)

Publicações científicas
(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)
FRESCHI‚ AA; DOS SANTOS‚ FJ; RIGON‚ EL; CESCATO‚ L. Phase-locking of superimposed diffractive gratings in photoresists. Optics Communications, v. 208, n. 1, p. 41-49, 2002.

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