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Núcleo de excelência em física e aplicações de plasmas

Processo: 11/50773-0
Linha de fomento:Auxílio à Pesquisa - Temático
Vigência: 01 de fevereiro de 2012 - 31 de maio de 2016
Área do conhecimento:Ciências Exatas e da Terra - Física - Física dos Fluídos, Física de Plasmas e Descargas Elétricas
Convênio/Acordo: CNPq - Pronex
Pesquisador responsável:Ricardo Magnus Osório Galvão
Beneficiário:Ricardo Magnus Osório Galvão
Instituição-sede: Instituto de Física (IF). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
Pesquisadores principais:
( Últimos )
Homero Santiago Maciel ; Marcos Massi
Pesquisadores principais:
( Antigos )
Choyu Otani
Auxílios(s) vinculado(s):16/02230-1 - Desenvolvimento de modelos de transporte das impurezas para implementá-los no código astra para TCABR, AV.EXT
16/07259-8 - European Physical Society 43rd Conference on Plasma Physics, AR.EXT
15/22376-8 - Geodesic mode instability driven by electron and ion fluxes in tokamaks, PUB.ART
+ mais auxílios vinculados 15/05956-0 - 15th International Conference on Atomic Layer Deposition, AR.EXT
14/18087-8 - 17º Congresso Internacional de Física dos Plasmas - ICPP 2014, AR.EXT
14/06685-8 - 41st EPS Conference on Plasma Physics, AR.EXT
14/01104-7 - The International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films (41st ICMCTF), AR.EXT
13/20652-2 - Turbulência do plasma e instabilidades MHD nos regimes modo L e modo H polarizado no tokamak TCABR, AV.EXT
12/07027-9 - 39th European Physical Society Conference on Plasma Physics 16th International Congress on Plasma Physics, AR.EXT - menos auxílios vinculados
Bolsa(s) vinculada(s):16/01576-1 - Estudos de plasmas frios aplicados em processos de corrosão de material semicondutor usando simulação computacional e métodos experimentais, BP.IC
15/10876-6 - Interação plasma-biofilme fúngico: diagnóstico do plasma e do processo de inativação de cepas do gênero Candida spp, BP.DR
14/03308-9 - Teoria de ondas de Alfvén em tokamaks, BP.MS
+ mais bolsas vinculadas 14/05615-6 - Montagem de sistemas de plasma atmosférico para processamento de materiais biológicos, BP.TT
13/24387-1 - Refletometria e localização de perturbações de densidade de plasma no tokamak TCABR, BP.IC
13/05269-8 - Desenvolvimento, caracterização e qualificação de materiais carbonosos sintetizados por técnicas CVD e PECVD, BP.DD
12/22830-2 - Modos Acústicos Geodésicos e Contínuo de Alfvén em Colunas de Plasma com Rotação, BP.DR
12/03593-0 - Estudo dos revestimentos de TiOxNy do foto-eletrodo de uma célula fotoeletroquímica aplicada para geração de hidrogênio a partir da água, BP.IC
12/03525-4 - Suporte e desenvolvimento de processos de materiais por plasmas frios operados em baixa pressão, BP.TT - menos bolsas vinculadas
Assunto(s):Física de plasmas  Fusão nuclear 

Resumo

Neste projeto é proposta a constituição de um Núcleo de Excelência para desenvolver trabalhos de pesquisa avançada em física de plasmas e suas aplicações. O Núcleo será formado por grupos de pesquisa de três instituições principais, o Instituto de Física da Universidade de São Paulo, o Instituto Tecnológico de Aeronáutica, e o Instituto de Pesquisa e Desenvolvimento da Universidade do Vale do Paraíba. O programa de pesquisa do Núcleo estará focalizado em dois temas principais, a saber: (i) transporte anômalo e efeito de ondas de Alfvén em plasmas termonucleares e (ii) aplicações de plasmas no processamento de materiais e combustão assistida. Os grupos de pesquisa que participam desta proposta têm produzido vários trabalhos de alta relevância nesses temas, nos últimos anos, mas não de forma articulada. Como esses temas envolvem várias áreas que se sobrepõem e utilizam modelos teóricos e técnicas experimentais similares, a articulação das atividades de pesquisa no contexto de um Núcleo terá um forte efeito sinergético, em particular na formação de novos pesquisadores, no fortalecimento de colaborações internacionais e na viabilização de transferência de resultados práticos para o setor produtivo. (AU)

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Publicações científicas (45)
(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)
SANTOS, EVERTON D.; LUQUETA, GERSON R.; ABDALA, JULIA M. A.; RAMU, RAJASEKARAN; ESPOSITO, ELISA; REZENDE, LEANDRO B.; VIEIRA, LUCIA; MILTON, JR., B.. Antimicrobial silver coating using PVD-PECVD system. INDIAN JOURNAL OF FIBRE & TEXTILE RESEARCH, v. 45, n. 2, p. 197-206, . (11/50773-0, 13/05269-8)
PESSOA, R. S.; SAGAS, J. C.; RODRIGUES, B. V. M.; GALVAO, N. K. A. M.; FRAGA, M. A.; PETRACONI, G.; MACIEL, H. S.. Experimental Studies on Low-Pressure Plane-Parallel Hollow Cathode Discharges. Brazilian Journal of Physics, v. 48, n. 4, p. 411-420, . (11/50773-0)
ELFIMOV, A. G.. Geodesic mode instability driven during ion cyclotron heating in tokamaks. Physics of Plasmas, v. 25, n. 6, . (11/50773-0)
DOWSON, S.; DORLING, S.; SHEIKH, H. K.; BLACKMAN, T.; JONES, G.; GOODYEAR, A.; PUGLIA, P.; BLANCHARD, P.; FASOLI, A.; TESTA, D.; et al. The JET upgraded toroidal Alfven Eigenmode Diagnostic System. FUSION ENGINEERING AND DESIGN, v. 146, n. B, SI, p. 2639-2643, . (11/50773-0)
RADI, POLYANA ALVES; VIEIRA, ANGELA; MANFROI, LUCAS; DE FARIAS NASS, KARINA CARVALHO; RAMIREZ RAMOS, MARCO ANTONIO; LEITE, PRISCILA; MARTINS, GISLENE VALDETE; FREIRE JOFRE, JORGE BENEDITO; VIEIRA, LUCIA. Tribocorrosion and corrosion behavior of stainless steel coated with DLC films in ethanol with different concentrations of water. CERAMICS INTERNATIONAL, v. 45, n. 7, B, p. 9686-9693, . (03/13373-8, 08/05533-9, 11/50773-0, 04/10856-0)
MERIJ, ABRAO CHIARANDA; SUGAHARA, TARCILA; MARTINS, GISLENE VALDETE; DA SILVA SOBRINHO, ARGEMIRO SOARES; PEREIRA REIS, DANIELI APARECIDA; RADI GONCALVES, POLYANA ALVES; MASSI, MARCOS. Use of Cr Inter layer to Promote the Adhesion of SIC Films Deposited on Ti-6Al-4V by HiPIMS. MATERIALS RESEARCH-IBERO-AMERICAN JOURNAL OF MATERIALS, v. 18, n. 5, p. 904-907, . (11/50773-0)
CHIAPPIM, W.; TESTONI, G. E.; MORAES, R. S.; PESSOA, R. S.; SAGAS, J. C.; ORIGO, F. D.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S.. Structural, morphological, and optical properties of TiO2 thin films grown by atomic layer deposition on fluorine doped tin oxide conductive glass. VACUUM, v. 123, p. 91-102, . (15/05956-0, 11/50773-0)
GONICHE, M.; DUMONT, R.; BOURDELLE, C.; DECKER, J.; DELPECH, L.; EKEDAHL, A.; GUILHEM, D.; GUIMARAES-FILHO, Z.; LITAUDON, X.; LOTTE, PH; et al. Advances in long pulse operation at high radio frequency power in Tore Supra. Physics of Plasmas, v. 21, n. 6, . (11/50773-0)
PUGLIA, P. G. P. P.; ELFIMOV, A. G.; RUCHKO, L. F.; GALVAO, R. M. O.; GUIMARAES-FILHO, Z.; RONCHI, G.; TEAM, TCABR. Externally driven global Alfven eigenmodes applied for effective mass number measurement on TCABR. Physics of Plasmas, v. 21, n. 12, . (11/50773-0, 10/52611-5)
TEZANI, L. L.; PESSOA, R. S.; MORAES, R. S.; MEDEIROS, H. S.; MARTINS, C. A.; MACIEL, H. S.; PETRACONI FILHO, G.; MASSI, M.; DA SILVA SOBRINHO, A. S.. Automation of a Mass Flow Controller for Application in Time-Multiplex SF6+CH4 Plasma Etching of Silicon. CONTRIBUTIONS TO PLASMA PHYSICS, v. 52, n. 9, p. 735-743, . (11/50773-0)
EVERTON DINIZ DOS SANTOS; GERSON LUQUETA; RAMU RAJASEKARAN; THAISA BAESSO DOS SANTOS; ANELISE CRISTINA OSORIO CESAR DORIA; POLYANA ALVES RADI; RODRIGO SAVIO PESSOA; LUCIA VIEIRA; HOMERO SANTIAGO MACIEL. Macrophages adhesion rate on Ti-6Al-4V substrates: polishing and DLC coating effects. Res. Biomed. Eng., v. 32, n. 2, p. 144-152, . (13/05269-8, 11/50773-0)
CHIAPPIM, W.; TESTONI, G. E.; DORIA, A. C. O. C.; PESSOA, R. S.; FRAGA, M. A.; GALVAO, N. K. A. M.; GRIGOROV, K. G.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S.. Relationships among growth mechanism, structure and morphology of PEALD TiO2 films: the influence of O-2 plasma power, precursor chemistry and plasma exposure mode. Nanotechnology, v. 27, n. 30, . (15/10876-6, 15/05956-0, 11/50773-0)
RONCHI, G.; SEVERO, J. H. F.; SALZEDAS, F.; GALVAO, R. M. O.; SANADA, E. K.. Interplay between intrinsic plasma rotation and magnetic island evolution in disruptive discharges. PLASMA PHYSICS REPORTS, v. 42, n. 5, p. 465-471, . (11/50773-0)
TEZANI, L. L.; PESSOA, R. S.; MACIEL, H. S.; PETRACONI, G.. Chemistry studies of SF6/CF4, SF6/O-2 and CF4/O-2 gas phase during hollow cathode reactive ion etching plasma. VACUUM, v. 106, p. 64-68, . (11/50773-0)
ABRÃO CHIARANDA MERIJ; TARCILA SUGAHARA; GISLENE VALDETE MARTINS; ARGEMIRO SOARES DA SILVA SOBRINHO; DANIELI APARECIDA PEREIRA REIS; POLYANA ALVES RADI GONÇALVES; MARCOS MASSI. Use of Cr Interlayer to Promote the Adhesion of SiC Films Deposited on Ti-6Al-4V by HiPIMS. MATERIALS RESEARCH-IBERO-AMERICAN JOURNAL OF MATERIALS, v. 18, n. 5, p. 904-907, . (11/50773-0)
DE ALMEIDA MARIBONDO GALVAO, NIERLLY KARINNI; DE VASCONCELOS, GETULIO; RIBEIRO DOS SANTOS, MARCOS VALENTIM; BASTOS CAMPOS, TIAGO MOREIRA; PESSOA, RODRIGO SAVIO; GUERINO, MARCIEL; DJOUADI, MOHAMED ABDOU; MACIEL, HOMERO SANTIAGO. Growth and Characterization of Graphene on Polycrystalline SiC Substrate Using Heating by CO2 Laser Beam. MATERIALS RESEARCH-IBERO-AMERICAN JOURNAL OF MATERIALS, v. 19, n. 6, p. 1329-1334, . (11/50773-0, 11/07468-2)
ELFIMOV, A. G.. Geodesic mode spectrum modified by the energetic particles in tokamak plasmas. Physics Letters A, v. 378, n. 47, p. 3533-3536, . (11/50773-0)
PESSOA, R. S.; FRAGA, M. A.; SANTOS, L. V.; MASSI, M.; MACIEL, H. S.. Nanostructured thin films based on TiO2 and/or SiC for use in photoelectrochemical cells: A review of the material characteristics, synthesis and recent applications. MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, v. 29, p. 56-68, . (11/50773-0)
ANELISE CRISTINA OSÓRIO CESAR DORIA; CAMILA DI PAULA COSTA SORGE; THAISA BAESSO SANTOS; JHONATAN BRANDÃO; POLYANA ALVES RADI GONÇALVES; HOMERO SANTIAGO MACIEL; SÔNIA KHOURI; RODRIGO SÁVIO PESSOA. Application of post-discharge region of atmospheric pressure argon and air plasma jet in the contamination control of Candida albicans biofilms. Res. Biomed. Eng., v. 31, n. 4, p. 358-362, . (11/50773-0, 15/10876-6)
DIAS, VANESSA; MACIEL, HOMERO; FRAGA, MARIANA; LOBO, ANDERSON O.; PESSOA, RODRIGO; MARCIANO, FERNANDA R.. Atomic Layer Deposited TiO2 and Al2O3 Thin Films as Coatings for Aluminum Food Packaging Application. MATERIALS, v. 12, n. 4, . (14/18139-8, 11/50773-0, 11/17877-7, 12/15857-1, 11/20345-7, 16/00575-1, 15/05956-0, 15/09697-0, 18/01265-1, 15/10876-6)
CHIAPPIM, WILLIAM; WATANABE, MARCOS; DIAS, VANESSA; TESTONI, GIORGIO; RANGEL, RICARDO; FRAGA, MARIANA; MACIEL, HOMERO; DOS SANTOS FILHO, SEBASTIAO; PESSOA, RODRIGO. MOS Capacitance Measurements for PEALD TiO2 Dielectric Films Grown under Different Conditions and the Impact of Al2O3 Partial-Monolayer Insertion. NANOMATERIALS, v. 10, n. 2, . (18/01265-1, 15/05956-0, 11/50773-0, 15/10876-6, 16/17826-7)
R. S. DE OLIVEIRA; H. A. FOLLI; C. STEGEMANN; I. M. HORTA; B. S. DAMASCENO; W. MIYAKAWA; A. L. J. PEREIRA; M. MASSI; A. S. DA SILVA SOBRINHO; D. M. G. LEITE. Structural, Morphological, Vibrational and Optical Properties of GaN Films Grown by Reactive Sputtering: The Effect of RF Power at Low Working Pressure Limit. MATERIALS RESEARCH-IBERO-AMERICAN JOURNAL OF MATERIALS, v. 25, . (15/06241-5, 11/50773-0)
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GALVAO, NIERLLY; GUERINO, MARCIEL; CAMPOS, TIAGO; GRIGOROV, KORNELI; FRAGA, MARIANA; RODRIGUES, BRUNO; PESSOA, RODRIGO; CAMUS, JULIEN; DJOUADI, MOHAMMED; MACIEL, HOMERO. The Influence of AlN Intermediate Layer on the Structural and Chemical Properties of SiC Thin Films Produced by High-Power Impulse Magnetron Sputtering. MICROMACHINES, v. 10, n. 3, . (18/01265-1, 11/50773-0, 14/18139-8)
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CHIAPPIM, W.; TESTONI, G. E.; DE LIMA, J. S. B.; MEDEIROS, H. S.; PESSOA, RODRIGO SAVIO; GRIGOROV, K. G.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S.. Effect of Process Temperature and Reaction Cycle Number on Atomic Layer Deposition of TiO2 Thin Films Using TiCl4 and H2O Precursors: Correlation Between Material Properties and Process Environment. Brazilian Journal of Physics, v. 46, n. 1, p. 56-69, . (15/05956-0, 11/50773-0)
NASS, K. C. F.; RADI, P. A.; LEITE, D. M. G.; MASSI, M.; DA SILVA SOBRINHO, A. S.; DUTRA, R. C. L.; VIEIRA, L.; REIS, D. A. P.. Tribomechanical and structural properties of a-SiC:H films deposited using liquid precursors on titanium alloy. SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, v. 284, p. 240-246, . (11/50773-0)
TESTONI, G. E.; CHIAPPIM, W.; PESSOA, R. S.; FRAGA, M. A.; MIYAKAWA, W.; SAKANE, K. K.; GALVAO, N. K. A. M.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S.. Influence of the Al2O3 partial-monolayer number on the crystallization mechanism of TiO2 in ALD TiO2/Al2O3 nanolaminates and its impact on the material properties. JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS, v. 49, n. 37, . (15/05956-0, 11/50773-0)
STEGEMANN, C.; MORAES, R. S.; DUARTE, D. A.; MASSI, M.. Thermal annealing effect on nitrogen-doped TiO2 thin films grown by high power impulse magnetron sputtering plasma power source. Thin Solid Films, v. 625, p. 49-55, . (11/50773-0)
LEAL, G.; FRAGA, M. A.; RASIA, L. A.; MASSI, M.. Impact of high N-2 flow ratio on the chemical and morphological characteristics of sputtered N-DLC films. SURFACE AND INTERFACE ANALYSIS, v. 49, n. 2, p. 99-106, . (14/18139-8, 11/50773-0, 13/17045-7)
RADI, POLYANA ALVES; TESTONI, GIORGIO ERNESTO; PESSOA, RODRIGO SAVIO; MACIEL, HOMERO SANTIAGO; ROCHA, LUIS AUGUSTO; VIEIRA, LUCIA. Tribocorrosion behavior of TiO2/Al2O3 nanolaminate, Al2O3, and TiO2 thin films produced by atomic layer deposition. SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY, v. 349, p. 1077-1082, . (03/13373-8, 08/05533-9, 11/50773-0, 04/10856-0)
GALVAO, NIERLLY; VASCONCELOS, GETULIO; PESSOA, RODRIGO; MACHADO, JOAO; GUERINO, MARCIEL; FRAGA, MARIANA; RODRIGUES, BRUNO; CAMUS, JULIEN; DJOUADI, ABDOU; MACIEL, HOMERO. A Novel Method of Synthesizing Graphene for Electronic Device Applications. MATERIALS, v. 11, n. 7, . (18/01265-1, 14/18139-8, 11/50773-0, 17/18826-3)
PESSOA, R. S.; DOS SANTOS, V. P.; CARDOSO, S. B.; DORIA, A. C. O. C.; FIGUEIRA, F. R.; RODRIGUES, B. V. M.; TESTONI, G. E.; FRAGA, M. A.; MARCIANO, F. R.; LOBO, A. O.; et al. TiO2 coatings via atomic layer deposition on polyurethane and polydimethylsiloxane substrates: Properties and effects on C. albicans growth and inactivation process. Applied Surface Science, v. 422, p. 73-84, . (15/10876-6, 15/09697-0, 12/15857-1, 11/50773-0, 16/00575-1, 15/08523-8, 15/05956-0, 11/17877-7, 11/20345-7)
PUGLIA, P. G. P.; ELFIMOV, A. G.; ANDRIATI, A. V.; GALVAO, R. M. O.; GUIMARAES-FILHO, Z. O.; RONCHI, G.; RUCHKO, L. F.. Mass number identification by Alfven wave diagnostics in hydrogen and helium plasmas in TCABR. Physics Letters A, v. 380, n. 11-12, p. 1189-1192, . (11/50773-0)
SAGAS, JULIO CESAR; PESSOA, RODRIGO SAVIO; MACIEL, HOMERO SANTIAGO. Langmuir Probe Measurements in a Grid-Assisted Magnetron Sputtering System. Brazilian Journal of Physics, v. 48, n. 1, p. 61-66, . (11/50773-0)
CHIAPPIM, WILLIAM; FRAGA, MARIANA AMORIM; MACIEL, HOMERO SANTIAGO; PESSOA, RODRIGO SAVIO. An Experimental and Theoretical Study of the Impact of the Precursor Pulse Time on the Growth Per Cycle and Crystallinity Quality of TiO2 Thin Films Grown by ALD and PEALD Technique. FRONTIERS IN MECHANICAL ENGINEERING-SWITZERLAND, v. 6, . (16/17826-7, 18/01265-1, 11/50773-0)
TINGUELY, R. A.; PUGLIA, P. G.; FIL, N.; DOWSON, S.; PORKOLAB, M.; DVORNOVA, A.; FASOLI, A.; FITZGERALD, M.; GUILLEMOT, V; HUYSMANS, G. T. A.; et al. Experimental studies of plasma-antenna coupling with the JET Alfven Eigenmode Active Diagnostic. NUCLEAR FUSION, v. 61, n. 2, . (11/50773-0)

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APARATO PARA REATOR A PLASMA, PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE REVESTIMENTO DE FILME DE CARBONO PELO USO DO REFERIDO APARATO E CORRESPONDENTE FILME OBTIDO BR1020140323740 - Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA) ; Universidade do Vale do Paraíba (UNIVAP) . Lucia Vieira; Marcos Massi; Argemiro Soares da Silva Sobrinho; Homero Santiago Maciel; Rodrigo Sávio Pessoa; Sara Fernanda Fissmer; Leandro Lameirão Ferreira; Polyana Alves Radi Gonçalves - 23 de dezembro de 2014