Filmes finos de carbono amorfo hidrogenado contendo também halogênios fabricados por deposição à vapor química assistido por plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (PIIID)

• Processo: 11/21345-0
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Regular
• Data de Início da vigência: 01 de abril de 2012
• Data de Término da vigência: 31 de março de 2014
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
• Pesquisador responsável: Steven Frederick Durrant
• Beneficiário: Steven Frederick Durrant
• Instituição Sede: Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus Experimental de Sorocaba. Sorocaba , SP, Brasil
• Município da Instituição Sede: Sorocaba
• Assunto(s): Filmes finos Carbono amorfo Halogênios Implantação iônica Propriedades ópticas Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD)
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Filmes finos | halogenios | implantção iônica | pecvd | Piiid | Propriedades Ópticas | Deposição a Plasma

Resumo

Serão produzidos por Deposição a Vapor Químico Assistido por Plasma (PECVD) e Deposição e Implantação Iônica por Imersão em Plasma (PIIID) filmes finos de carbono amorfo hidrogenado, halogenado, a-C:H:X, onde X é um halogênio, e similares como a-C:H:Si:X. A estrutura e composição química destes filmes serão caracterizadas por Espectroscopia de Foto-elétrons de Raios-X (XPS) e Espectroscopia no Infravermelho por Transformada de Fourier (FTIR). Propriedades ópticas dos filmes, como o índice de refração, coeficiente de absorção e gap óptico, serão calculados a partir de dados obtidos por Espectroscopia no Ultravioleta-visivel-infravermelho próximo (UVS). É pleiteado um acessório para permitir obter espectros de refletância com o espectrofotômetro, que permitirão estes cálculos mesmo na ausência de franjas de interferência nos espectros de transmitância, que é uma restrição no método comumente empregado. As diferenças tanto nas estruturas e composições químicas dos filmes e nas propriedades ópticas dos materiais obtidas pelas duas técnicas serão examinadas. Medidas de ângulo de contato também serão feitas. (AU)

Publicações científicas

(5)

(As publicações científicas contidas nesta página são originárias da Web of Science ou da SciELO, cujos autores mencionaram números dos processos FAPESP concedidos a Pesquisadores Responsáveis e Beneficiários, sejam ou não autores das publicações. Sua coleta é automática e realizada diretamente naquelas bases bibliométricas)

RANGEL, ELIDIANE C.; DE SOUZA, EDUARDO S.; DE MORAES, FRANCINE S.; DUEK, ELIANA A. R.; LUCCHESI, CAROLINA; SCHREINER, WIDO H.; DURRANT, STEVEN F.; CRUZ, NILSON C.. Cell Adhesion to Plasma-Coated PVC. SCIENTIFIC WORLD JOURNAL, v. N/A, p. 9-pg., 2014-01-01. (11/21345-0, 05/03420-4)

ÉRICA PEREIRA DA SILVA; MICHEL CHAVES; STEVEN FREDERICK DURRANT; PAULO NORONHA LISBOA-FILHO; JOSÉ ROBERTO RIBEIRO BORTOLETO. Morphological and electrical evolution of ZnO: Al thin filmsdeposited by RF magnetron sputtering onto glass substrates. MATERIALS RESEARCH-IBERO-AMERICAN JOURNAL OF MATERIALS, v. 17, n. 6, p. 1384-1390, 2014-12-00. (08/53311-5, 11/21345-0)

RANGEL, ELIDIANE C.; DE SOUZA, EDUARDO S.; DE MORAES, FRANCINE S.; DUEK, ELIANA A. R.; LUCCHESI, CAROLINA; SCHREINER, WIDO H.; DURRANT, STEVEN F.; CRUZ, NILSON C.. Cell Adhesion to Plasma-Coated PVC. SCIENTIFIC WORLD JOURNAL, 2014. (05/03420-4, 11/21345-0)

DA SILVA, ERICA PEREIRA; CHAVES, MICHEL; DURRANT, STEVEN FREDERICK; LISBOA-FILHO, PAULO NORONHA; RIBEIRO BORTOLETO, JOSE ROBERTO. Morphological and Electrical Evolution of ZnO:Al Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering onto Glass Substrates. MATERIALS RESEARCH-IBERO-AMERICAN JOURNAL OF MATERIALS, v. 17, n. 6, p. 1384-1390, NOV-DEC 2014. (11/21345-0, 08/53311-5)

BORTOLETO, J. R. R.; CHAVES, M.; ROSA, A. M.; DA SILVA, E. P.; DURRANT, S. F.; TRINO, L. D.; LISBOA-FILHO, P. N.. Growth evolution of self-textured ZnO films deposited by magnetron sputtering at low temperatures. Applied Surface Science, v. 334, p. 210-215, APR 15 2015. (11/21345-0, 08/53311-5)