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Filmes finos de carbono amorfo hidrogenado contendo também halogênios fabricados por deposição à vapor química assistido por plasma (PECVD) e deposição e implantação iônica por imersão em plasma (PIIID)

Processo: 11/21345-0
Linha de fomento:Auxílio à Pesquisa - Regular
Vigência: 01 de abril de 2012 - 31 de março de 2014
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
Pesquisador responsável:Steven Frederick Durrant
Beneficiário:Steven Frederick Durrant
Instituição-sede: Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus Experimental de Sorocaba. Sorocaba , SP, Brasil
Assunto(s):Filmes finos  Carbono amorfo  Halogênios  Implantação iônica  Propriedades ópticas  Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD) 

Resumo

Serão produzidos por Deposição a Vapor Químico Assistido por Plasma (PECVD) e Deposição e Implantação Iônica por Imersão em Plasma (PIIID) filmes finos de carbono amorfo hidrogenado, halogenado, a-C:H:X, onde X é um halogênio, e similares como a-C:H:Si:X. A estrutura e composição química destes filmes serão caracterizadas por Espectroscopia de Foto-elétrons de Raios-X (XPS) e Espectroscopia no Infravermelho por Transformada de Fourier (FTIR). Propriedades ópticas dos filmes, como o índice de refração, coeficiente de absorção e gap óptico, serão calculados a partir de dados obtidos por Espectroscopia no Ultravioleta-visivel-infravermelho próximo (UVS). É pleiteado um acessório para permitir obter espectros de refletância com o espectrofotômetro, que permitirão estes cálculos mesmo na ausência de franjas de interferência nos espectros de transmitância, que é uma restrição no método comumente empregado. As diferenças tanto nas estruturas e composições químicas dos filmes e nas propriedades ópticas dos materiais obtidas pelas duas técnicas serão examinadas. Medidas de ângulo de contato também serão feitas. (AU)

Publicações científicas (4)
(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)
BORTOLETO, J. R. R.; CHAVES, M.; ROSA, A. M.; DA SILVA, E. P.; DURRANT, S. F.; TRINO, L. D.; LISBOA-FILHO, P. N. Growth evolution of self-textured ZnO films deposited by magnetron sputtering at low temperatures. Applied Surface Science, v. 334, p. 210-215, APR 15 2015. Citações Web of Science: 13.
DA SILVA, ERICA PEREIRA; CHAVES, MICHEL; DURRANT, STEVEN FREDERICK; LISBOA-FILHO, PAULO NORONHA; RIBEIRO BORTOLETO, JOSE ROBERTO. Morphological and Electrical Evolution of ZnO:Al Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering onto Glass Substrates. MATERIALS RESEARCH-IBERO-AMERICAN JOURNAL OF MATERIALS, v. 17, n. 6, p. 1384-1390, NOV-DEC 2014. Citações Web of Science: 7.
ÉRICA PEREIRA DA SILVA; MICHEL CHAVES; STEVEN FREDERICK DURRANT; PAULO NORONHA LISBOA-FILHO; JOSÉ ROBERTO RIBEIRO BORTOLETO. Morphological and electrical evolution of ZnO: Al thin filmsdeposited by RF magnetron sputtering onto glass substrates. MATERIALS RESEARCH-IBERO-AMERICAN JOURNAL OF MATERIALS, v. 17, n. 6, p. 1384-1390, Dez. 2014.
RANGEL, ELIDIANE C.; DE SOUZA, EDUARDO S.; DE MORAES, FRANCINE S.; DUEK, ELIANA A. R.; LUCCHESI, CAROLINA; SCHREINER, WIDO H.; DURRANT, STEVEN F.; CRUZ, NILSON C. Cell Adhesion to Plasma-Coated PVC. SCIENTIFIC WORLD JOURNAL, 2014. Citações Web of Science: 1.

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