Hiroshi Shimizu | Nagoya University - Japão

• Processo: 96/00281-2
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Pesquisador Visitante - Internacional
• Vigência: 29 de março de 1996 - 28 de março de 1997
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
• Pesquisador responsável: Carlos Kenichi Suzuki
• Beneficiário: Carlos Kenichi Suzuki
• Pesquisador visitante: Hiroshi Shimizu
• Inst. do pesquisador visitante: Nagoya University, Japão
• Instituição Sede: Faculdade de Engenharia Mecânica (FEM). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Assunto(s): Fibra óptica Sílica vítrea Quartzo fundido Deposição química por vapor CVD Deposição axial na fase vapor
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Alta Pureza | Caracterizacao Estrutural | Fibras Opticas | Macarico Quartzo Fundido | Processo Vad | Silica Vitrea

Resumo

O Brasil logrou sucesso tanto em pesquisa & desenvolvimento, como também na implantação industrial de fibras ópticas para telecomunicações. Entretanto, na atualidade, o alto custo das importações dos tubos de sílica e o processo MCVD ("Modified Chemical Vapour Deposition") para preparação das preformas (que não possibilita a otimização dos custos de produção) começa a mostrar sérios sintomas de comprometimento. O trabalho a ser desenvolvido pelo Professor Visitante (Prof. Hiroshi Shimizu) visa elaborar o projeto e a construção de maçaricos, e implantar os fundamentos básicos para a deposição de sílica vitrea para fibras ópticas pelo processo VAD ("Vapour-phase Axial Deposition"), atualmente a mais moderna e eficiente neste segmento de alta tecnologia. O programa também envolve a participação de teses de pós-graduação e a pesquisa de recém-doutores. A colaboração e participação da ABC-XTAL Fibras Ópticas também está prevista. (AU)