RTI - 2011 - Plano anual de aplicação da reserva técnica

• Processo: 11/51494-8
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Reserva Técnica para Infraestrutura Institucional de Pesquisa
• Data de Início da vigência: 01 de outubro de 2011
• Data de Término da vigência: 31 de maio de 2015
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Jose Alexandre Diniz
• Beneficiário: Jose Alexandre Diniz
• Instituição Sede: Centro de Componentes Semicondutores (CCS). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Município da Instituição Sede: Campinas
• Assunto(s): Projetos de infraestrutura
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Infraestrutura | Microfabricacao | Nanofabricacao

Resumo

Para ampliar as demandas em nanotecnologia no Brasil, as verbas provenientes dos projetos FAPESP, 2010/08822-1 (projeto regular) e 2009/54064-4 (projeto temático), para o CCS/Unicamp possibilitaram um melhor desempenho no sistema FIB e a instalação de um sistema de litografia por feixe de elétrons (RAITH e-line plus), que permitirá gravar estruturas em substratos com dimensões mínimas de 20 nm, respectivamente. Os dois projetos geraram uma reserva técnica institucional junto à FAPESP de cerca de R$ 215.000,00 (duzentos e quinze mil reais). Assim, esta proposta para utilização de Reserva técnica institucional (RTI), visa apresentar a justificativa do emprego desta reserva e o orçamento de como será usada esta verba no CCS/Unicamp. (AU)