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Estudo do crescimento, cristalização e estrutura da superfície em filmes finos, multicamadas e nanoestruturas formadas pelo método de deposição de monocamadas atômicas

Processo: 09/09027-3
Linha de fomento:Auxílio à Pesquisa - Apoio a Jovens Pesquisadores
Vigência: 01 de dezembro de 2009 - 31 de outubro de 2011
Área do conhecimento:Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
Pesquisador responsável:Angelo Malachias de Souza
Beneficiário:Angelo Malachias de Souza
Instituição-sede: Laboratório Nacional de Luz Síncrotron (LNLS). Centro Nacional de Pesquisa em Energia e Materiais (CNPEM). Ministério da Ciência, Tecnologia, Inovações e Comunicações (Brasil). Campinas , SP, Brasil
Auxílios(s) vinculado(s):10/18548-4 - Uso de radiação síncrotron no estudo do crescimento de filmes finos e nanoestruturas de nitretos de al e in produzidos por deposição de monocamadas atômicas (ALD), AV.BR
Assunto(s):Filmes finos  Nanopartículas  Radiação síncrotron  Difração por raios X 
Publicação FAPESP:http://media.fapesp.br/bv/uploads/pdfs/Investindo...pesquisadores_228_180_180.pdf

Resumo

Este projeto pretende estabelecer uma nova linha de pesquisa na formação e estudos estruturais de filmes finos e nanopartículas crescidas pelo método de Atomic Layer Deposition (ALD). Pretendemos nuclear um novo grupo de pesquisa em síntese de materiais que potencialmente se tornará referência nacional no uso desta técnica, ainda pouco explorada no estado de São Paulo e no Brasil. Em particular, estamos interessados na síntese de duas classes de materiais: i) óxidos de alta constante dielétrica e óxidos magnéticos e; ii) nitretos semicondutores. A busca por novos resultados em ciência básica e aplicada utilizando a técnica de ALD envolverá a construção de uma câmara para crescimento in-situ nas linhas de difração e absorção de raios-x, possibilitando o entendimento quantitativo das etapas de crescimento e cristalização de filmes finos e nanopartículas produzidas por este método. A possibilidade de crescer materiais por uma nova rota de síntese, a facilidade de operação, ausência de contaminação da câmara e o baixo custo de manutenção do reator de ALD serão cruciais para fomentar de maneira ampla a pesquisa interna em ciência dos materiais no Laboratório Nacional de Luz Síncrotron. (AU)

Publicações científicas
(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)
DE PAULI, MURIEL; MATOS, MATHEUS J. S.; SILES, PABLO F.; PRADO, MARIANA C.; NEVES, BERNARDO R. A.; FERREIRA, SUKARNO O.; MAZZONI, MARIO S. C.; MALACHIAS, ANGELO. Chemical Stabilization and Improved Thermal Resilience of Molecular Arrangements: Possible Formation of a Surface Network of Bonds by Multiple Pulse Atomic Layer Deposition. Journal of Physical Chemistry B, v. 118, n. 32, p. 9792-9799, AUG 14 2014. Citações Web of Science: 1.
SILES, PABLO F.; DE PAULI, MURIEL; BOF BUFON, CARLOS CESAR; FERREIRA, SUKARNO O.; BETTINI, JEFFERSON; SCHMIDT, OLIVER G.; MALACHIAS, ANGELO. Tuning resistive switching on single-pulse doped multilayer memristors. Nanotechnology, v. 24, n. 3 JAN 25 2013. Citações Web of Science: 12.
DE PAULI, M.; MALACHIAS, A.; WESTFAHL, JR., H.; BETTINI, J.; RAMIREZ, A.; HUANG, G. S.; MEI, Y. F.; SCHMIDT, O. G. Study of roughness evolution and layer stacking faults in short-period atomic layer deposited HfO2/Al2O3 multilayers. Journal of Applied Physics, v. 109, n. 6 MAR 15 2011. Citações Web of Science: 5.

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