Estudo do crescimento, cristalização e estrutura da superfície em filmes finos, multicamadas e nanoestruturas formadas pelo método de deposição de monocamadas atômicas

• Processo: 09/09027-3
• Modalidade de apoio: Auxílio à Pesquisa - Jovens Pesquisadores
• Vigência: 01 de dezembro de 2009 - 31 de outubro de 2011
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Angelo Malachias de Souza
• Beneficiário: Angelo Malachias de Souza
• Instituição Sede: Associação Brasileira de Tecnologia de Luz Síncrotron (ABTLuS). Ministério da Ciência, Tecnologia e Inovação (Brasil). Campinas , SP, Brasil
• Auxílios(s) vinculado(s): 10/18548-4 - Uso de radiação síncrotron no estudo do crescimento de filmes finos e nanoestruturas de nitretos de al e in produzidos por deposição de monocamadas atômicas (ALD), AV.BR
• Assunto(s): Filmes finos Nanopartículas Radiação síncrotron Difração por raios X
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Absorção de Raios-X | Atomic Layer Deposition | difração de raios-X | microscopia | nanoestruturas | Radiação Síncrotron | Filmes finos e nanopartículas
• Publicação FAPESP: https://media.fapesp.br/bv/uploads/pdfs/Investindo...pesquisadores_228_180_180.pdf

Resumo

Este projeto pretende estabelecer uma nova linha de pesquisa na formação e estudos estruturais de filmes finos e nanopartículas crescidas pelo método de Atomic Layer Deposition (ALD). Pretendemos nuclear um novo grupo de pesquisa em síntese de materiais que potencialmente se tornará referência nacional no uso desta técnica, ainda pouco explorada no estado de São Paulo e no Brasil. Em particular, estamos interessados na síntese de duas classes de materiais: i) óxidos de alta constante dielétrica e óxidos magnéticos e; ii) nitretos semicondutores. A busca por novos resultados em ciência básica e aplicada utilizando a técnica de ALD envolverá a construção de uma câmara para crescimento in-situ nas linhas de difração e absorção de raios-x, possibilitando o entendimento quantitativo das etapas de crescimento e cristalização de filmes finos e nanopartículas produzidas por este método. A possibilidade de crescer materiais por uma nova rota de síntese, a facilidade de operação, ausência de contaminação da câmara e o baixo custo de manutenção do reator de ALD serão cruciais para fomentar de maneira ampla a pesquisa interna em ciência dos materiais no Laboratório Nacional de Luz Síncrotron. (AU)

Publicações científicas

(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)

SILES, PABLO F.; DE PAULI, MURIEL; BOF BUFON, CARLOS CESAR; FERREIRA, SUKARNO O.; BETTINI, JEFFERSON; SCHMIDT, OLIVER G.; MALACHIAS, ANGELO. Tuning resistive switching on single-pulse doped multilayer memristors. Nanotechnology, v. 24, n. 3, JAN 25 2013. (09/09027-3, 10/18548-4)

DE PAULI, M.; MALACHIAS, A.; WESTFAHL, JR., H.; BETTINI, J.; RAMIREZ, A.; HUANG, G. S.; MEI, Y. F.; SCHMIDT, O. G.. Study of roughness evolution and layer stacking faults in short-period atomic layer deposited HfO2/Al2O3 multilayers. Journal of Applied Physics, v. 109, n. 6, MAR 15 2011. (09/11875-2, 09/09027-3)

DE PAULI, MURIEL; MATOS, MATHEUS J. S.; SILES, PABLO F.; PRADO, MARIANA C.; NEVES, BERNARDO R. A.; FERREIRA, SUKARNO O.; MAZZONI, MARIO S. C.; MALACHIAS, ANGELO. Chemical Stabilization and Improved Thermal Resilience of Molecular Arrangements: Possible Formation of a Surface Network of Bonds by Multiple Pulse Atomic Layer Deposition. Journal of Physical Chemistry B, v. 118, n. 32, p. 9792-9799, AUG 14 2014. (09/09027-3)