SBMicro 2019 - 34th Symposium on Microelectronics Technology and Devices
EMU: gerador de padrões ópticos para máscaras litográficas e escrita direta
| Processo: | 17/13667-4 |
| Linha de fomento: | Auxílio à Pesquisa - Reunião - Brasil |
| Vigência: | 28 de agosto de 2017 - 01 de setembro de 2017 |
| Área do conhecimento: | Engenharias - Engenharia Elétrica - Medidas Elétricas, Magnéticas e Eletrônicas, Instrumentação |
| Pesquisador responsável: | Michelly de Souza |
| Beneficiário: | Michelly de Souza |
| Instituição-sede: | Campus de São Bernardo do Campo. Centro Universitário da FEI (UNIFEI). Fundação Educacional Inaciana Padre Sabóia de Medeiros (FEI). São Bernardo do Campo , SP, Brasil |
| Assunto(s): | Dispositivos eletrônicos Nanoeletrônica Microeletrônica Circuitos integrados |