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Aplicacao de metodos fisicos para fabricacao de filmes finos, nanoestruturas e dispositivos.

Processo: 07/59440-9
Linha de fomento:Bolsas no Brasil - Apoio a Jovens Pesquisadores
Vigência (Início): 01 de dezembro de 2007
Vigência (Término): 31 de maio de 2009
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
Pesquisador responsável:Ednan Joanni
Beneficiário:Ednan Joanni
Instituição-sede: Instituto de Química (IQ). Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus de Araraquara. Araraquara , SP, Brasil
Vinculado ao auxílio:07/58348-1 - Aplicação de métodos físicos para fabricação de filmes finos, nanoestruturas e dispositivos, AP.JP
Assunto(s):Pulverização catódica   Materiais nanoestruturados   Dispositivos   Filmes finos

Resumo

Este projeto tem como objetivos o uso das técnicas de "sputtering" e deposição por laser pulsado para a fabricação de filmes finos, nanoestruturas e dispositivos. Esses métodos de deposição serão utilizados para a obtenção de filmes metálicos, dielétricos e semicondutores, a síntese de nanoestruturas de óxidos semicondutores, bem como a construção e teste de dispositivos usando esses filmes e nanoestruturas. Os parâmetros experimentais de cada um 'desses processos serão manipulados para estudar o seu efeito sobre a composição, dimensões e morfologia das nanoestruturas e de filmes finos depositados sobre diferentes substratos. Os nanofios e os filmes finos serão caracterizados por microscopia de força atômica (AFM), microscopia eletrônica de varredura (FE-SEM, EDS) difração de raios-x (XRD), microscopia eletrônica de transmissão (TEM. HRTEM. WD), espectroscopia de fotoelétrons de raios-X (XPS) bem como por medidas elétricas e ópticas. Serão fabricados e testados dispositivos (capacitores, varistores, sensores de gases e células solares) que irão explorar as propriedades ópticas e elétricas dos materiais, tanto na forma de filmes como de camadas nanoestruturadas. (AU)

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