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Produção de filmes de Ag-DLC obtidos por pulverização catódica assistida a plasma de alta potência - HiPIMS

Processo: 10/10351-7
Linha de fomento:Bolsas no Brasil - Doutorado
Vigência (Início): 01 de novembro de 2010
Vigência (Término): 31 de agosto de 2013
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
Pesquisador responsável:Lúcia Vieira
Beneficiário:Sara Fernanda Fissmer
Instituição-sede: Divisão de Ciências Fundamentais (IEF). Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA). Ministério da Defesa (Brasil). São José dos Campos , SP, Brasil
Assunto(s):Atrito   Desgaste (tribologia)   Carbono amorfo   Nanopartículas metálicas   Prata

Resumo

Propõe-se neste trabalho o estudo da inserção de partículas de prata em filmes de DLC através de técnicas assistidas por plasma, pesquisa essa que já vem sendo desenvolvida no Laboratório de Plasmas e Processos do ITA com objetivo de estudar a redução da taxa de corrosão sofrida pelos filmes de DLC na presença do oxigênio atômico e também comparar as propriedades tribológicas, como o coeficiente de atrito e o desgaste dos filmes de DLC com e sem nanopartículas de prata. Além disso, estudos das propriedades mecânicas, como aderência, serão feitos, visto que filmes de DLC depositados sobre substratos metálicos apresentam baixa adesão nos filmes, causado pela alta tensão residual - interna e externa - destes revestimentos, visto que nanopartículas em sua estrutura podem reduzir o stress do filme. Com o objetivo de se obter filmes melhor aderidos a substratos metálicos, pretende-se produzir os filmes por deposição física na fase de vapor (do inglês Physical Vapor Deposition - PVD) por plasma pulsado em altas potências (High Power Impulse Magnetron Sputtering - HiPIMS). Esta é uma técnica recentemente desenvolvida para deposição de filmes finos via magnetron sputtering que se utiliza de plasmas altamente ionizados. Com isso será possível estabelecer condições únicas para o crescimento de filmes com propriedades superiores aos obtidos por sputtering convencional, de maneira que apresentam alto nível de compactação, são livres de defeitos, possuem alta aderência a substratos, entre outras. A formação e distribuição das nanopartículas de prata sobre o filme de DLC serão estudadas em relação à nucleação, coalescência e crescimento dos grãos. (AU)