Influência da texturização e de defeitos cristalinos nas propriedades ferroelétricas de filmes finos e cerâmicos

• Processo: 08/06476-9
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Programa Capacitação - Treinamento Técnico
• Data de Início da vigência: 01 de agosto de 2008
• Data de Término da vigência: 28 de fevereiro de 2009
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
• Pesquisador responsável: José Arana Varela
• Beneficiário: Rodrigo Alves de Souza
• Instituição Sede: Instituto de Química (IQ). Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus de Araraquara. Araraquara , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 04/14932-3 - Influência da texturização e de defeitos cristalinos nas propriedades ferroelétricas de filmes finos e cerâmicos, AP.TEM
• Assunto(s): Dielétricos Método dos precursores poliméricos Cerâmicas ferroelétricas Filmes finos Materiais ferroelétricos
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Dielétricos | Ferroelétricos | Filmes finos | Método dos Precursores Poliméricos | Cerâmicas ferroelétricas

Resumo

A proposta deste projeto é continuar as pesquisas de caráter multidisciplinar em materiais cerâmicos com características ferroelétricas, que vem sendo desenvolvido no projeto temático FAPESP 00/01991-0, pelos pesquisadores do Laboratório Interdisciplinar deCerâmica (LIEC). O objetivo principal é dar um salto substancial de qualidade no entendimento desses filmes e cerâmicas, quando comparado com as pesquisasanteriores do grupo e os resultados da literatura.Será objeto central neste projeto, avaliar o efeito da disposição e orientação dos domínios ferroelétricos bem como da texturização, nas propriedades elétricasde filmes e cerâmicas ferroelétricas. Propriedades dielétricas, piezelétricas, relaxoras eeletrostrictivas serão avaliadas e correlacionadas com as características cristalográficas, microestruturais e estequiométricas (composição química) dos materiais,procurando estabelecer qual a influencia desses parâmetros sobre fadiga, retenção e "imprint". Para isso serão processados filmes finos e cerâmicas ferroelétricas, em sua forma amorfa ou cristalina, utilizando processos químicos (Método dos PrecursoresPoliméricos) e físicos ("RF-Magnetron sputtering") visando obter propriedades iguais ou superiores às obtidas pelos métodos reportados na literatura. As propriedades das cerâmicas ferroelétricas serão otimizadas por intermédio do controle do processamentopara obter cerâmicas quimicamente e microestruturalmente homogêneas. Serão utilizadosnanocristais anisotrópicos como templates visando melhorar as propriedades dos filmes e cerâmicas. Os filmes finos serão depositados em substratos adequados controlando-se a homogeneidade química, a microestrutura e a interação filme-eletrodo. O tratamento térmico, parte essencial no processamento de filmes e cerâmicas, será cuidadosamente otimizado utilizando-se de formas alternativas como o microondasque evita reações interfaciais e permite alcançar melhor densificação das cerâmicas em tempos e temperaturas menores, resultando em eficiência e economia. Portanto, controlando se a síntese, a cristalização de fases e a sinterização espera-seprocessar filmes e cerâmicas com propriedades ferroelétricas, dielétricas e piezoelétricas adequadas à aplicações em dispositivos microeletrônicos, tais como capacitores, atuadores, elementos de memória FeRAMs e DRAM, "displays", moduladores, sensores.