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Análise da distribuição das tensões em próteses obturadoras palatinas implantorretidas em função do tipo de sistema de retenção quando submetidos a forças de tração: análise pela fotoelasticidade e extensometria.

Processo: 14/04919-1
Linha de fomento:Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
Vigência (Início): 01 de junho de 2014
Vigência (Término): 31 de maio de 2015
Área do conhecimento:Ciências da Saúde - Odontologia
Pesquisador responsável:Marcelo Coelho Goiato
Beneficiário:Henrique Rinaldi Matheus
Instituição-sede: Faculdade de Odontologia (FOA). Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus de Araçatuba. Araçatuba , SP, Brasil
Assunto(s):Prótese bucomaxilofacial   Biomecânica   Implantes dentários

Resumo

O objetivo desse estudo é avaliar a influência de diferentes sistemas de retenção de próteses obturadoras palatinas implantorretidas na dissipação de cargas sob forças de retenção, por meio dos métodos fotoelástico e extensometria. Um modelo fotoelástico de uma maxila com comunicação buco-sinusal com três implantes hexágono externo 4x13 mm será confeccionado para realização dos testes. Duas próteses obturadoras palatinas e duas réplicas de um modelo de prótese obturadora serão confeccionadas, as quais serão divididas em dois grupos de acordo com o sistema de retenção, uma de cada para o'ring e a mesma divisão para o barra-clip. Será realizado primeiro o teste da fotoelasticidade e posteriormente a extensometria. Com o auxílio de uma máquina de ensaio EMIC serão aplicadas as cargas. Três tipos de deslocamento (vertical, anterior e posterior) serão realizados sobre réplicas de próteses obturadoras palatinas implantorretidas, que receberão três ganchos de metal, um na superfície vestibular da linha média anterior e dois bilateralmente na região de molares. Para o teste de fotoelasticidade serão realizadas imagens fotográficas que auxílio do programa Adobe Photoshop CS6 serão analisadas de acordo com o número de franjas de alta intensidade e de acordo com a concentração e área de distribuição dessas tensões nos grupos testados. Para a metodologia da extensometria, dois extensômetros elétricos de resistência serão posicionados horizontalmente na região mesial e distal dos implantes diretamente sobre a crista marginal do modelo fotoelástico. Os sinais elétricos serão captados por um aparelho de aquisição de dados controlado por um computador, sendo processados por um software específico. As médias dos valores de tensão registrados serão agrupadas em tabelas e submetidas à análise estatística.

Publicações científicas
(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)
GOIATO, MARCELO COELHO; MATHEUS, HENRIQUE RINALDI; DE MEDEIROS, RODRIGO ANTONIO; DOS SANTOS, DANIELA MICHELINE; BITENCOURT, SANDRO BASSO; PESQUEIRA, ALDIERIS ALVES. A photoelastic and strain gauge comparison of two attachments for obturator prostheses. JOURNAL OF PROSTHETIC DENTISTRY, v. 117, n. 5, p. 685-689, MAY 2017. Citações Web of Science: 2.

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