Estudo e otimização do processo de liberação de RF MEMS fabricados em tecnologia CMOS

• Processo: 14/18170-2
• Linha de fomento: Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
• Vigência (Início): 01 de novembro de 2014
• Vigência (Término): 31 de julho de 2015
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Circuitos Elétricos, Magnéticos e Eletrônicos
• Pesquisador responsável: Gustavo Pamplona Rehder
• Beneficiário: Rafael Martins Manzano Silva
• Instituição-sede: Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Vinculado ao auxílio: 11/18167-3 - RF MEMS em ondas milimétricas utilizando processo CMOS comercial, AP.JP
• Assunto(s): Microeletrônica Radiofrequência CMOS

Resumo

O presente trabalho pretende estudar e otimizar o processo liberação dos RF MEMS fabricados com tecnologia CMOS comercial em desenvolvimento no LME. Pretende-se estudar os mecanismos de corrosão por RIE e otimizar este processo. A corrosão por HF vapor também será estudada visando a melhorar a reprodutibilidade da corrosão e eliminar os resíduos que aparecem após este processo. Um processo alternativo que utiliza corrosão úmida e secagem supercrítica também será testado.