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Estudo e otimização do processo de liberação de RF MEMS fabricados em tecnologia CMOS

Processo: 14/18170-2
Linha de fomento:Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
Vigência (Início): 01 de novembro de 2014
Vigência (Término): 31 de julho de 2015
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia Elétrica - Circuitos Elétricos, Magnéticos e Eletrônicos
Pesquisador responsável:Gustavo Pamplona Rehder
Beneficiário:Rafael Martins Manzano Silva
Instituição-sede: Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
Vinculado ao auxílio:11/18167-3 - RF MEMS em ondas milimétricas utilizando processo CMOS comercial, AP.JP
Assunto(s):Microeletrônica   Radiofrequência   CMOS

Resumo

O presente trabalho pretende estudar e otimizar o processo liberação dos RF MEMS fabricados com tecnologia CMOS comercial em desenvolvimento no LME. Pretende-se estudar os mecanismos de corrosão por RIE e otimizar este processo. A corrosão por HF vapor também será estudada visando a melhorar a reprodutibilidade da corrosão e eliminar os resíduos que aparecem após este processo. Um processo alternativo que utiliza corrosão úmida e secagem supercrítica também será testado.