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Avaliação da integridade do substrato poli(metacrilato de metila) - PMMA na produção de grafeno pelo método CVD

Processo: 15/11482-1
Linha de fomento:Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
Vigência (Início): 01 de julho de 2015
Vigência (Término): 16 de outubro de 2016
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia Elétrica - Telecomunicações
Pesquisador responsável:Eunezio Antonio de Souza
Beneficiário:Emerson Candido de Oliveira
Instituição-sede: Centro de Pesquisas Avançadas em Grafeno, Nanomateriais e Nanotecnologia (MackGrafe). Universidade Presbiteriana Mackenzie (UPM). Instituto Presbiteriano Mackenzie. São Paulo, SP, Brasil
Vinculado ao auxílio:12/50259-8 - Grafeno: fotônica e opto-eletrônica: colaboração UPM-NUS, AP.SPEC
Assunto(s):Grafenos   Fotônica   Polímeros (materiais)

Resumo

Um procedimento de escolha do substrato polimérico deve ser realizado de acordo com a aplicação do grafeno, ou seja, devem-se respeitar as temperaturas de aplicação, necessidade de transparência e propriedades mecânicas exigidas. Um estudo prévio de qual polímero deve ser utilizado deve ser realizado, principalmente, no que se diz respeito a temperaturas de transição vítrea (Tg), temperatura de fusão, grau de cristalinidade, massa molar, solubilidade a diferentes solventes e resistência mecânica (curvas tensão versus deformação na temperatura de uso do material). Não menos importante, um estudo sistemático deve ser realizado para avaliar a possível degradação sofrida pelo substrato polimérico durante o processo de retirado do Cu. Essa avaliação deve ser focada na mudança de massa molar após processo de obtenção do grafeno. Ensaios de Cromatografia de Exclusão por Tamanho (Size Exclusion Chromatography - SEC) serão realizados antes e após processo de obtenção dos filmes de grafeno. Esse projeto irá avaliar o poli(metacrilato de metila) - PMMA como um substrato polimérico para produção de filmes de grafeno pelo método de "Chemical Vapor Deposition - CVD", avaliando suas propriedades de transparência, propriedades térmicas e mecânicas, como também ser estável as condições de processo por CVD. (AU)