| Processo: | 16/17302-8 |
| Modalidade de apoio: | Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado |
| Data de Início da vigência: | 01 de março de 2017 |
| Data de Término da vigência: | 28 de fevereiro de 2019 |
| Área de conhecimento: | Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos |
| Acordo de Cooperação: | Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior (CAPES) |
| Pesquisador responsável: | Carlos Frederico de Oliveira Graeff |
| Beneficiário: | Mirko Congiu |
| Instituição Sede: | Faculdade de Ciências (FC). Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus de Bauru. Bauru , SP, Brasil |
| Vinculado ao auxílio: | 13/07296-2 - CDMF - Centro de Desenvolvimento de Materiais Funcionais, AP.CEPID |
| Assunto(s): | Semicondutores Filmes finos |
| Palavra(s)-Chave do Pesquisador: | Filmes finos | Memorias ReRAM | memristors | sulfeto de cobalto | sulfeto de cobre | Semicondutores |
Resumo Este projeto de pós-doutorado consiste no estudo da aplicação de filmes finos de sulfetos de cobre e cobalto (CoS, Cu2-xS e CuS) como camadas ativas de memristores. O estudo será focado na fabricação de dispositivos multicamada, cuja função será de memória eletrônica. Para a deposição das camadas do semicondutor serão utilizadas as técnicas que o candidato desenvolveu durante o seu doutorado (processo 2013/07396-7); além de serem econômicas, tais técnicas mostraram-se adequadas no campo das células solares baseadas em corantes. Propomos métodos de fabricação em larga escala de memristores, através de processos de impressão. Os dispositivos serão baseados numa estrutura a dois terminais contendo um sanduiche de semicondutores diferentes. Serão estudadas as interfaces entre o CuS e a sua fase não estequiométrica Cu2-xS, que podem ser impressos diretamente no substrato de maneira sequencial, da mesma forma as junções entre CoS e CuS ou Cu2-xS serão consideradas. Todos os dispositivos serão caracterizados utilizando as mais modernas técnicas eletroquímicas tais como impedância e voltametria cíclica, além de técnicas de microscopia. Os dispositivos serão implementados num sistema de deposição automático desenvolvido pelo interessado (patente depositada) baseado num microcontrolador. O presente projeto conta com a colaboração do instituto de materiais do Consiglio Nazionale delle Ricerche (ISM-CNR, Montelibretti, Roma, Italia). | |
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