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Microcavidades ressonantes de microdiscos utilizando o confinamento provido por GaAs e AlxGa1-xAs parcialmente oxidado

Processo: 17/09481-2
Linha de fomento:Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
Vigência (Início): 01 de julho de 2017
Vigência (Término): 30 de junho de 2019
Área do conhecimento:Ciências Exatas e da Terra - Física
Pesquisador responsável:Newton Cesario Frateschi
Beneficiário:Pedro Vinicius Pinho Nascimento
Instituição-sede: Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
Assunto(s):Fotônica   Oxidação   Instrumentação (física)   Lasers semicondutores

Resumo

Desenvolveremos ressonadores de microdisco utilizando o confinamento de modos do tipo "Whispering Galery Modes" pela oxidação parcial de camadas de AlxGa1-xAs. Para tal, inicialmente desenvolveremos um aparato para oxidação seletiva de camadas com ligas de AlxGa1-xAs em estruturas epitaxiais crescidas sobre substratos de GaAs. O processo de oxidação seletiva desenvolvido será caracterizado considerando parâmetros de composição de alumínio na liga, temperatura da amostra e fluxo de vapores oxidantes. O aluno irá se familiarizar com técnicas de micro fabricação, instrumentação além de realizar um estudo dirigido na área de lasers de semicondutor com ênfase em micro e nano lasers. Subsequentemente, o aluno desenvolverá os ressonadores que serão caracterizados utilizando o método de fibras afuniladas. Todo o trabalho será realizado no Laboratório de Pesquisa em Dispositivos, Departamento de Física Aplicada, IFGW. (AU)