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Potencial mecânico da associação de diferentes tratamentos com a deposição de filmes por vapor químico melhorado por plasma na superfície da zircônia

Processo: 17/13933-6
Linha de fomento:Bolsas no Brasil - Doutorado
Vigência (Início): 01 de março de 2018
Vigência (Término): 31 de maio de 2021
Área do conhecimento:Ciências da Saúde - Odontologia - Materiais Odontológicos
Pesquisador responsável:Aldiéris Alves Pesqueira
Beneficiário:Sandro Basso Bitencourt
Instituição-sede: Faculdade de Odontologia (FOA). Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus de Araçatuba. Araçatuba , SP, Brasil
Bolsa(s) vinculada(s):18/24984-3 - Deposição de sílica na zircônia via deposição de camada atômica em temperatura ambiente (RT-ALD): efeito na resistência de união com cerâmica de cobertura, BE.EP.DR
Assunto(s):Prótese dentária   Porcelana dentária   Zircônia   Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD)

Resumo

Diversos estudos propõem tratamentos de superfície da zircônia para melhorar a união com a cerâmica de cobertura. Dentre eles, destaca-se o tratamento pela deposição de filmes por vapor químico melhorado por plasma (PECVD) assistido por bombardeamento iônico por ter se mostrado efetivo na modificação das propriedades químicas e físicas de biomateriais. Apesar dos efeitos promissores sobre os sistemas cerâmicos, nenhum estudo avaliou a associação do tratamento por PECVD com jateamento e liner na melhora da resistência de união entre a zircônia e uma cerâmica vítrea. Assim, este estudo tem por objetivos avaliar a degradação do filme depositado por PECVD e comprovar a efetividade desse tratamento, comparando com outros tratamentos de superfície na zircônia, por meio da análise da degradação do filme por PECVD, da transformação de fase da zircônia e da resistência de união após diferentes tratamentos de superfície e meios de envelhecimento. Para avaliação da degradação serão confeccionadas 30 amostras retangulares de zircônia sendo avaliada de hora em hora, em um período de 24 horas, por meio da análise do ângulo de contato e energia de superfície, rugosidade e análise da espessura do filme. Essa análise será realizada, também, antes e após a simulação da queima da cerâmica de cobertura em forno cerâmico. Para a etapa de resistência de união, serão confeccionadas 294 amostras de zircônia que receberão diferentes tratamentos de superfície, divididas em sete grupos: 1) controle (sem tratamento); 2) jateamento com partículas de óxido de alumínio de 27 µm; 3) liner; 4) PECVD; 5) jateamento (27 µm) + liner; 6) jateamento (27 µm) + PECVD e 7) PECVD + liner. Será realizada a caracterização de superfície após os tratamentos (MEV/EED, AFM, ES, rugosidade) e, posteriormente, a resistência de união após diferentes meios de envelhecimento (controle, envelhecimento hidrotérmico e fadiga térmica). Para análise da transformação de fase, será utilizado um difratômetro de raios-x após cada tratamento de superfície. Os dados obtidos serão submetidos ao teste de aderência à curva normal, sendo aplicado teste estatístico apropriado para a comparação dos valores médios das amostras. Ainda, uma revisão sistemática será produzida de acordo com os critérios PRISMA para avaliar se o tratamento a plasma proporciona uma melhora na resistência de união entre a zircônia e a cerâmica de cobertura. Assim, ao término desse estudo, objetiva-se comprovar a eficácia do tratamento por PECVD, além de propor um protocolo de tratamento, armazenamento e aplicação da cerâmica de cobertura após a deposição de filmes por PECVD. (AU)