Fonte de potência para síntese de filmes finos por pulverização catódica na faixa de kHz: sistema de medição de tensão, corrente e potência

• Processo: 19/20980-6
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Pesquisa Inovativa em Pequenas Empresas - PIPE
• Vigência (Início): 01 de agosto de 2019
• Vigência (Término): 30 de abril de 2020
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Circuitos Elétricos, Magnéticos e Eletrônicos
• Pesquisador responsável: Wagner Henrique Rabelo
• Beneficiário: Wagner Henrique Rabelo
• Empresa Sede: Intersecta Engenharia Ltda
• CNAE: Fabricação de equipamentos e aparelhos elétricos não especificados anteriormente
• Vinculado ao auxílio: 18/22595-0 - Fonte de potência para síntese de filmes finos por pulverização catódica na faixa de kHz - sistema de medição de tensão, corrente e potência, AP.PIPE
• Assunto(s): Eletrônica de potência Deposição de filmes finos Pulverização catódica
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Circuitos elétricos | dopagem | Filmes finos | magnetron sputtering | média frequência | plasma | Eletrônica de Potência

Resumo

O avanço das técnicas de deposição de filmes finos sobre as superfícies dos materiais tem permitido agregar valor e dar novas funcionalidades aos produtos. Atualmente, os filmes finos têm encontrado grande aplicação no mercado. Entretanto, hoje a técnica de deposição mais utiliza é com fonte de energia em RF (Rádio Frequência), que apresenta um custo elevado e maior complexidade de instalação devido as suas interferências causadas em outros equipamentos eletrônicos no local de utilização. Nesse contexto, destaca-se a utilização de fonte de potência na faixa de kHz, em especifico, a fonte desenvolvida no trabalho de mestrado "Fonte de potência para síntese de filmes finos por pulverização catódica na faixa de kHz" (Rabelo, 2018), para a deposição de filmes finos por meio da técnica de magnetron sputtering. Neste trabalho, a fonte foi testada na produção de filmes finos de AZO, onde os filmes produzidos se comportavam como um TCO (óxido transparente condutivo). A comparação dos resultados com os trabalhos disponíveis na literatura, permitiram concluir que a fonte amplificadora de potência desenvolvida possibilitou a obtenção de filmes finos de AZO com características de condutividade e transparência superiores àqueles produzidos com fontes operando em RF, técnica atualmente disponível e amplamente utilizada no mercado. A análise das características morfológicas, ópticas e elétricas permitiram concluir que sua aplicação na síntese de filmes finos apresentou resultados semelhantes ou superiores aos filmes produzidos com rádio frequência, porém com custos menores e baixa complexidade na implementação. Nessa perspectiva, considerando que as fontes existentes em kHz para aplicação de filmes finos, atualmente, não são produzidas no Brasil, o objetivo deste projeto é dar continuidade no desenvolvimento da FAP para sua comercialização. O item a ser desenvolvido nesse projeto é o sistema de medição de variáveis elétricas da fonte (tensão, corrente e potência), e fazer o controle de potência com o armazenamento destas informações em um data logger. (AU)