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Deposição de heteroestruturas transparentes de ZrO2 associado ao semicondutor óxido SnO2, com potencial utilização em dispositivos optoeletrônicos

Processo: 21/04144-3
Linha de fomento:Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
Vigência (Início): 01 de setembro de 2021
Vigência (Término): 28 de fevereiro de 2022
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
Pesquisador responsável:Luis Vicente de Andrade Scalvi
Beneficiário:Lucas Prado Fonseca
Instituição-sede: Faculdade de Ciências (FC). Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus de Bauru. Bauru , SP, Brasil
Assunto(s):Materiais não metálicos   Óptica eletrônica   Filmes finos   Heteroestruturas   Dióxido de estanho   Óxidos semicondutores   Zircônia   Sensoriamento

Resumo

A presente proposta envolve a deposição de camadas de óxido de zircônio (ZrO2), óxido com características isolantes, via sol-gel (processo químico). Além da investigação dessas camadas, propõe-se também a combinação com camadas de SnO2 criando um dispositivo transparente simples, baseado nas heterojunção SnO2/ZrO2. A idéia central do projeto é o uso desses óxidos para as funções de canal de condução (SnO2) e de isolamento elétrico em transistor transparente de efeito de campo (FET), que será construído de modo simples, com potencial aplicação em optoeletrônica. Ainda que não seja prioritário neste projeto, é importante mencionar que a combinação desses óxidos também tem levado à otimização de dispositivos para sensoriamento de gás. Alternativamente propõe-se também a adição de uma camada intermediária de nanoparticulas de poliestireno (PS). O aluno já vem trabalhando nessa linha de pesquisa nos últimos dois anos, de modo que os 8 meses de bolsa solicitados neste projeto são suficientes para que atinja bons resultados, sendo esse tempo até sua graduação. (AU)

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