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Estudo da resistência à corrosão de revestimentos híbridos siloxano-PMMA aplicados sobre a liga AA7050

Processo: 09/16975-5
Linha de fomento:Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado
Vigência (Início): 01 de março de 2010
Vigência (Término): 31 de julho de 2010
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica
Pesquisador responsável:Celso Valentim Santilli
Beneficiário:Marina Magnani
Instituição-sede: Instituto de Química (IQ). Universidade Estadual Paulista (UNESP). Campus de Araraquara. Araraquara , SP, Brasil
Vinculado ao auxílio:07/53073-4 - Cerâmicas mesoporosas e hibridos orgânico-inorgânicos multifuncionais preparados pelo processo sol-gel, AP.TEM
Assunto(s):Eletroquímica   Processo sol-gel   Corrosão dos materiais

Resumo

Apesar da eficiência a corrosão dos sistemas a base de cromo hexavalente (Cr+6), o uso desse metal em revestimentos foi proibido em diversos países devido a sua elevada toxicidade. Em virtude disso, a comunidade científica, busca o desenvolvimento de substitutos ambientalmente amigáveis, para o emprego e tratamento de ligas de alumínio utilizadas na indústria aeronáutica. Neste trabalho, filmes híbridos a base de polisiloxano serão depositados sobre a liga AA7050 por dip-coating a partir de um sol preparado via catálise ácida com a hidrólise e co-policondensação do tetraetoxi silano (TEOS) e 3- metacriloxipropril trimetoxi silano (MPTS), seguido da polimerização radicalar dos grupos metacrilato. Com o intuito de melhorar ainda mais as propriedades anticorrosivas do sistema, íons Ce, Ti e Zn serão adicionados na matriz híbrida PMMA-SiO2.Os estudos eletroquímicos serão realizados utilizando medidas de espectroscopia de impedância eletroquímica (EIS), e medidas de resistência de polarização linear em solução de NaCl 3,5%. As características físico-químicas dos filmes serão analisadas por ressonância magnética nuclear (RMN) de 13C e 29Si, microscopia Raman, espectroscopia foto eletrônica de raios X (XPS). A resistência ao desgaste e a morfologia do filme dopado ou não com íons Ce, Ti e Zn será analisada por ensaios de pin-on-disk e por microscopias de força atômica (AFM) e eletrônica de varredura (SEM) respectivamente; o mapeamento dos elementos químicos será feito por energia dispersiva de raios (EDS). A adesão do filme também será analisada. (AU)

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