Software para manipulação de arquivos de CAD para litografia com feixe de elétrons

• Processo: 99/01350-6
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
• Data de Início da vigência: 01 de agosto de 1999
• Data de Término da vigência: 31 de dezembro de 1999
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Jacobus Willibrordus Swart
• Beneficiário: Gabriel Figueiredo Martins Bonilha
• Instituição Sede: Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação (FEEC). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Assunto(s): Litografia (processos de impressão) Semicondutores Softwares
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Fotogracao | Litografia | Mascara | Otimizacao | Semicondutores | Software

Resumo

A fabricação de dispositivos semicondutores para microeletrônica, optoeletrônica e micromecânica requer a definição de padrões geométricos com grande precisão. Esta etapa pode ser feita através de litografia óptica (ou fotogravação) utilizando uma máscara, ou diretamente no substrato, utilizando-se a técnica de litografia por feixe de elétrons. Para à fotogravação, é necessária a confecção de máscaras ópticas que contenham a matriz desses padrões geométricos fielmente reproduzida. Neste projeto propõe-se o desenvolvimento de um software que analise o arquivo de layout ou CAD (Computer Aided Design), faça a conversão de formatos e otimize a distribuição de doses de acordo com as dimensões e disposição das geometrias encontradas. Uma rotina para a geração de arquivos a partir de padrões definidos por funções matemáticas será desenvolvida. Este software será utilizado nos laboratórios de litografia do Centro de Componentes Semicondutores na confecção de máscaras litográficas de qualidade superior às atualmente obtidas. (AU)