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Filmes finos de sno2 para aplicacoes em "displays" de cristal liquido (lcds) e de efeito de campo (feds).

Processo: 01/11189-0
Linha de fomento:Bolsas no Brasil - Pós-Doutorado
Vigência (Início): 01 de dezembro de 2001
Vigência (Término): 31 de julho de 2002
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia Elétrica
Pesquisador responsável:Alaide Pellegrini Mammana
Beneficiário:Li Bin Bin
Instituição-sede: Centro de Pesquisas Renato Archer (CENPRA). Ministério da Ciência, Tecnologia, Inovações e Comunicações (Brasil). Campinas , SP, Brasil
Assunto(s):Dióxido de estanho

Resumo

Investigar filmes finos de SnO2, dopados e não dopados, visando sua aplicação em dispositivos de heterojunção de SnO2/Si. Serão investigadas as propriedades físicas e elétricas dos filmes e sua relação com a estrutura cristalográfica buscando as que levem às melhores características para dispositivos de chaveamento a serem empregados no endereçamento de mostradores de cristal líquido. Os dispositivos de heterojunção serão construídos com silício monocristalino sobre o qual é depositado filme fino de SnO2 pela técnica de CVD. Serão construídas amostras de teste para medida da corrente em função da tensão aplicada e em função da temperatura. Será também estudada a capacitância da junção tendo em vista determinar a eventual presença de óxido de silício na interface. Os dispositivos serão integrados a displays de cristal líquido nemático torcido (LCD-TN) e a displays de PDLC (polymer dispersed liquid crystal) tendo em vista a futura fabricação de mostradores matriciais de endereçamento intrínseco. (AU)