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Preparacao e caracterizacao de filmes finos de oxido de indio e estanho (ito) obtido pelo metodo sol-gel nao hidrolitico.

Processo: 07/05558-9
Modalidade de apoio:Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
Vigência (Início): 01 de dezembro de 2007
Vigência (Término): 31 de maio de 2008
Área do conhecimento:Ciências Exatas e da Terra - Química - Química Inorgânica
Pesquisador responsável:Paulo Sergio Calefi
Beneficiário:Gabriel Marcondes Silva
Instituição Sede: Pró-Reitoria Adjunta de Pesquisa e Pós-Graduação. Universidade de Franca (UNIFRAN). Franca , SP, Brasil
Assunto(s):Filmes finos   Química de materiais
Palavra(s)-Chave do Pesquisador:Filmes finos | Óxido de Índio e Estanho | Sol-Gel não hidrolítico | Química de Materiais

Resumo

Filmes finos condutores transparentes têm aplicações diversas em varias áreas tecnológicas e viabilizam a substituição de diversos materiais com a mesma eficiência e, por vezes, com redução de custos. O óxido de índio e estanho (ITO) é um óxido misto, amplamente usado como eletrodo em vários dispositivos optoeletrônicos que requerem transparência óptica a luz visível combinada com baixa resistência elétrica, tais como células solares, displays e dispositivos orgânicos eletroluminescentes, devido as suas propriedades, incluindo alta transparência óptica, baixa resistência elétrica e excelente adesão à superfície O ITO tem sido produzido em forma de filmes finos através de vários métodos, os principais são: evaporação térmica, sputtering, CVD (deposição química a partir do vapor), eletron-beam, spray-coating; e sol-gel através de spin-coating e dip-coatingNeste trabalho será investigada a síntese do ITO pelo processo sol-gel não hidrolítico, que tem se apresentado como uma rota alternativa para a produção de óxidos metálicos a temperaturas baixas, na ordem de 150ºC, e possibilitando a obtenção de materiais híbridos com maior homogeneidade e permitindo maior reprodutibilidade na obtenção destes materiais.O processo de obtenção dos filmes serão pelas técnicas de dip-coating e spin-coating, eles serão caracterizados por espectroscopia de absorção na região ultra-violeta e visível (UV-VIS), microscopia eletrônica de transmissão (TEM) e terão resistividades relativas determinadas. O material obtido na forma de pó será caracterizado por espectroscopia Raman, espectroscopia de absorção na região do ultravioleta e visível (UV-VIS), e do infravermelho (FTIR), e microscopia eletrônica de transmissão (TEM) e análise termogravimétrica (TG E DTA), a caracterização do pó será feita porque algumas determinações importantes do material não podem ser obtidas se o material estiver aderido ao substrato.

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