Construção de um sistema para PECVD (deposição por vapor químico assistido por plasma) e PE (plasma etching-corrosão)

• Processo: 94/00758-8
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Iniciação Científica
• Vigência (Início): 01 de junho de 1994
• Vigência (Término): 30 de novembro de 1995
• Área do conhecimento: Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
• Pesquisador responsável: Jorge Ivan Cisneros
• Beneficiário: Alexandre Fontes da Fonseca
• Instituição Sede: Instituto de Física Gleb Wataghin (IFGW). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Assunto(s): Corrosão Deposição de filmes finos
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Corrosao De Filmes | Deposicao De Filmes | Plasma