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Elaboração e caracterização de revestimentos por deposição química de vapores organometálicos (MOCVD)

Processo: 04/04756-3
Linha de fomento:Bolsas no Exterior - Pesquisa
Vigência (Início): 15 de setembro de 2004
Vigência (Término): 14 de dezembro de 2004
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica
Pesquisador responsável:Marina Fuser Pillis
Beneficiário:Marina Fuser Pillis
Anfitrião: Marco Sacilotti
Instituição-sede: Instituto de Pesquisas Energéticas e Nucleares (IPEN). Secretaria de Desenvolvimento Econômico (São Paulo - Estado). São Paulo , SP, Brasil
Local de pesquisa : Université de Bourgogne, França  

Resumo

A técnica de deposição química de vapores organometálicos (MOCVD) tem sido usada recentemente para proteger materiais metálicos expostos a altas temperaturas. Este trabalho de pesquisa tem como objetivos: a) Obtenção e caracterização de depósitos de micro e nanoestruturas de óxidos de cromo, alumínio, zircônio e ítrio isoladamente ou co-depositados sobre ligas à base de ferro; b) Obtenção e caracterização de depósitos de micro e nanoestruturas de GaAIIn e TiNO sobre Si; c) Estudo da interface entre as partículas micro/nanométricas e o substrato. Será feita uma correlação entre as variáveis do processo de deposição e as características dos revestimentos obtidos (estrutura cristalina, morfologia, composição química, aderência, etc.), utilizando-se várias técnicas de caracterização microestrutural. (AU)