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Investigação de materiais à base de silício mediante técnicas de micro e nano caracterização

Processo: 06/04245-4
Linha de fomento:Bolsas no Exterior - Pesquisa
Vigência (Início): 19 de fevereiro de 2007
Vigência (Término): 18 de julho de 2007
Área do conhecimento:Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
Pesquisador responsável:Antonio Ricardo Zanatta
Beneficiário:Antonio Ricardo Zanatta
Anfitrião: Martin Eric Kordesch
Instituição-sede: Instituto de Física de São Carlos (IFSC). Universidade de São Paulo (USP). São Carlos , SP, Brasil
Local de pesquisa: Ohio University, Estados Unidos  
Assunto(s):Filmes finos   Semicondutores

Resumo

Este programa de pesquisas de curta duração tem por objetivo principal a investigação de materiais à base de silício mediante a utilização de técnicas de alta resolução espacial. As amostras a serem investigadas consistirão de filmes de SiN dopados com íons terra-rara e filmes de Si contendo Ni ou Fe. O programa prevê a realização de caracterizações ópticas e composicionais e, principalmente, o emprego de diferentes técnicas de microscopia (eletrônica, de campo próximo, de foto-elétrons). A partir da realização deste programa, esperamos poder avançar significativamente no entendimento das propriedades opto-eletrônicas desta classe de materiais de grande interesse tecnológico. O programa contempla, ainda, minha iniciação no estudo da reações dinâmicas (thermites) e de nano-partículas de ouro. Representa o início de uma cooperação científica internacional que permitirá aperfeiçoar meus conhecimentos na área de nano-ciências (mais especificamente, em técnicas de caracterização de alta resolução espacial). (AU)