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Deposição de filmes de diamante policristalino sobre ferramentas de corte de nitreto de silício e compósitos via técnicas de deposição química CVD

Processo: 00/00678-7
Linha de fomento:Bolsas no Exterior - Pesquisa
Vigência (Início): 15 de maio de 2000
Vigência (Término): 14 de maio de 2001
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia de Materiais e Metalúrgica - Materiais Não-metálicos
Pesquisador responsável:Vitor Alexandre da Silva
Beneficiário:Vitor Alexandre da Silva
Anfitrião: Rui Ramos Ferreira e Silva
Instituição-sede: Pessoa Física
Local de pesquisa : Universidade de Aveiro (UA), Portugal  
Assunto(s):Materiais compósitos de matriz cerâmica   Nitreto de silício   Deposição química por vapor CVD   Filmes finos de diamante   Diamantes CVD   Propriedades mecânicas   Ferramentas de corte

Resumo

Neste projeto estudar-se-á a aplicação de cerâmicos técnicos densos - nitreto de silício (Si3N4) e compósitos desta matriz - na forma de novos substratos para crescimento de filmes finos de diamante por deposição química em fase gasosa (CVD). A excelente afinidade deste material para o diamante quanto aos respectivos coeficientes de expansão térmica, potência uma elevada adesão dos filmes e constitui a razão principal desta investigação. A aplicabilidade destes cerâmicos revestidos com diamante situa-se na área das ferramentas de corte (pastilhas para torneamento e fresagem, mós diamantadas, brocas odontológicas, etc.) e materiais de elevada resistência ao desgaste (bicos injectores para materiais abrasivos, vedantes, fieiras, etc.), constituindo uma alternativa aos materiais convencionais. (AU)

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