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Produção e caracterização de filmes finos de óxidos dopados com terras raras

Processo: 96/12452-6
Linha de fomento:Bolsas no Brasil - Mestrado
Vigência (Início): 01 de agosto de 1997
Vigência (Término): 31 de julho de 1999
Área do conhecimento:Ciências Exatas e da Terra - Física - Física da Matéria Condensada
Pesquisador responsável:Máximo Siu Li
Beneficiário:Fábio Simões de Vicente
Instituição-sede: Instituto de Física de São Carlos (IFSC). Universidade de São Paulo (USP). São Carlos , SP, Brasil
Assunto(s):Filmes finos   Óxidos   Fotoluminescência   Terras raras

Resumo

Neste trabalha desenvolveremos filmes finos de óxidos, LiNbO3 dopados com Er3+ e ZrO2 dopados com Er3+, Pr3+ e Ítrio e também filmes de halogenetos alcalinos (KC1, KBr, KI):Yb2+:CN-. Os filmes serão crescidos por técnicas de evaporação térmica-resistiva e por canhão de elétrons e posteriormente serão caracterizados opticamente por técnicas de absorção e emissão induzida por laser, com um estudo de suas propriedades ópticas em função das técnicas de crescimento. (AU)

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