Fabricação de micro e nano-estruturas: escrita direta por feixe de elétrons e corrosão por plasma

• Processo: 98/07001-0
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado
• Data de Início da vigência: 01 de março de 1999
• Data de Término da vigência: 28 de fevereiro de 2003
• Área de conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Jacobus Willibrordus Swart
• Beneficiário: Claudia Reyes Betanzo
• Instituição Sede: Centro de Componentes Semicondutores (CCS). Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Campinas , SP, Brasil
• Assunto(s): Corrosão CMOS Litografia (processos de impressão)
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Corrosao Por Plasma | Litografia Por Eletrons | Porta De Transistor Mos | Tecnologia Cmos

Resumo

O projeto tem como objetivo: a) Desenvolver um sistema de corrosão por plasma hídrido tipo RIE/ICP e desenvolver processo de corrosão de Si; b) Desenvolver processo e escrita direta em lâmina de Si com sistema de feixe de elétrons, usando o sistema ZBA-21 instalado no nosso laboratório; c) Desenvolver um processo de definição de linhas de Si-poli para porta de transitores MOS de dimensões sub-micrométricas (0.25 um); d) Desenvolver processo de fabricação de máscara de substrato de silício para litografia profunda por raios-X, para uso na linha de raio-X do anel do LNLS. O projeto é um projeto de pesquisa amplo que envolve o trabalho de uma equipe, sendo que a bolsista será responsável pelo trabalho de projeto, montagem e caracterização do sistema de corrosão por plasma e pela parte de estudo do processo de corrosão de Si. (AU)

Publicações acadêmicas

(Referências obtidas automaticamente das Instituições de Ensino e Pesquisa do Estado de São Paulo)

BETANZO, Claudia Reyes. Corrosão por plasma para tecnologias CMOS e microssistemas. 2003. Tese de Doutorado - Universidade Estadual de Campinas (UNICAMP). Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação Campinas, SP.