Estudo e caracterização de filmes de carbono do tipo diamante (diamond like carbon-DLC) depositados pela técnica de sputtering reativo

• Processo: 99/04854-5
• Modalidade de apoio: Bolsas no Brasil - Doutorado
• Vigência (Início): 01 de outubro de 1999
• Vigência (Término): 30 de setembro de 2003
• Área do conhecimento: Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
• Pesquisador responsável: Ronaldo Domingues Mansano
• Beneficiário: Simone Camargo Trippe
• Instituição Sede: Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
• Assunto(s): Deposição de filmes finos Filmes finos de carbono tipo diamante (DLC) Pulverização catódica Semicondutores Dispositivos ópticos Plasma (microeletrônica)
• Palavra(s)-Chave do Pesquisador: Carbono Tipo Diamante | Diamante | Microeletronica | Plasma | Sputtering

Resumo

Neste trabalho serão desenvolvidos processos de deposição de filmes de carbono tipo diamante (DLC) por sputtering reativo que possam ser aplicados tanto como dielétricos em dispositivos semicondutores, como filtros e guias de onda em dispositivos ópticos. Estes processos devem ser compatíveis com os processos de microeletrônica e com os materiais usados em dispositivos ópticos (quartzo e/ou policarbonato). (AU)