Busca avançada
Ano de início
Entree

Estudo e aplicação de litografia por feixe de elétrons na fabricação de estruturas de relevo contínuo para utilização em microoptica integrada

Processo: 99/08365-9
Linha de fomento:Bolsas no Brasil - Mestrado
Vigência (Início): 01 de março de 2000
Vigência (Término): 30 de setembro de 2001
Área do conhecimento:Engenharias - Engenharia Elétrica - Materiais Elétricos
Pesquisador responsável:Antonio Carlos Seabra
Beneficiário:Hamilton Fernandes de Moraes Junior
Instituição-sede: Escola Politécnica (EP). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
Assunto(s):Microeletrônica

Resumo

As técnicas de fabricação desenvolvidas para microeletrônica são utilizadas em outras áreas de aplicação, como sensores, micromáquinas e elementos microópticos. Em particular, a aplicação dessas técnicas em micro6ptica possibilita o desenvolvimento de elementos que apresentam novas e inusitadas propriedades ópticas e que dificilmente seriam implementados utilizando-se técnicas tradicionais de abrasão e polimento. Este trabalho visa estudar a etapa de litografia por feixe de elétrons para aplicação na fabricação de elementos microópticos planares de relevo continuo (não binário) por escrita direta, sem a utilização de mascaras, o que permite obter microestruturas complexas diretamente a partir da base de dados em computador por meio de uma única etapa de exposição e por meio do processamento adequado. Como principais objetivos deste trabalho temos a formalização teórica da obtenção de relevos contínuos por meio da litografia por feixe de elétrons e a fabricação experimental de microlentes de Fresnel em camadas de resiste espesso. (AU)