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Deposição de filmes de nitreto de boro (BN) e fonte de plasma para deposição de filmes em áreas extensas

Processo: 96/11951-9
Linha de fomento:Bolsas no Brasil - Doutorado
Vigência (Início): 01 de maio de 1997
Vigência (Término): 31 de agosto de 1999
Área do conhecimento:Ciências Exatas e da Terra - Física - Física dos Fluídos, Física de Plasmas e Descargas Elétricas
Pesquisador responsável:Ricardo Magnus Osório Galvão
Beneficiário:José Antônio Sevidanes da Matta
Instituição-sede: Instituto de Física (IF). Universidade de São Paulo (USP). São Paulo , SP, Brasil
Assunto(s):Tratamento de superfícies   Plasma (estados da matéria)   Nitreto de boro

Resumo

Trabalho experimental: I) montagem e teste do sistema de deposição-reator ECR; II) medida dos parâmetros de plasma; III) crescimento dos filmes de BN em substratos diversos; IV) caracterização dos filmes depositados; V) implementação no sistema ECR-RF par (AU)

Publicações acadêmicas
(Referências obtidas automaticamente das Instituições de Ensino e Pesquisa do Estado de São Paulo)
MATTA, José Antônio Sevidanes da. Desenvolvimento e caracterização de uma fonte de plasma ECR para deposição de filmes finos. 2001. Tese de Doutorado - Universidade de São Paulo (USP). Instituto de Física São Paulo.

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