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APARATO PARA REATOR A PLASMA, PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE REVESTIMENTO DE FILME DE CARBONO PELO USO DO REFERIDO APARATO E CORRESPONDENTE FILME OBTIDO

Tipo de documento:Patente
Inventor(es): Lucia Vieira; Marcos Massi; Argemiro Soares da Silva Sobrinho; Homero Santiago Maciel; Rodrigo Sávio Pessoa; Sara Fernanda Fissmer; Leandro Lameirão Ferreira; Polyana Alves Radi Gonçalves
Depositante: Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA) ; Universidade do Vale do Paraíba (UNIVAP)
Data do depósito: 23 de dezembro de 2014
Registro INPI:
BR1020140323740 - Consulta INPI
IPC: B01J 19/08 B01J 2/006 B01J 19/088 B01J 2219/00139 C23C 16/0245 B01J 2/00 C23C 16/02
Resumo

APARATO PARA REATOR A PLASMA, PROCESSO DE DEPOSIÇÃO DE REVESTIMENTO DE FILME DE CARBONO PELO USO DO REFERIDO APARATO E CORRESPONDENTE FILME OBTIDO. A presente invenção se refere a um reator a plasma, um processo de revestimento de filme de carbono referido aparato e correspondente filme aparato para deposição de pelo uso do obtido a partir do referido processo. O referido aparato para reator de plasma que viabiliza que o processo de deposição de revestimento de filmes de carbono a plasma ocorra apresentando distribuição ordenada e sobreposição regular, compreendendo o uso de nanopartículas ou com a ausência de nanopartículas e com carreamento de vapor de líquido por meio de diferença de pressão. O referido carreamento implica na dispensa do uso de gás de arraste e do uso de aquecimento externo para evaporação. A presente invenção pertence ao campo da química.


Processo FAPESP: 11/50773-0 - Núcleo de excelência em física e aplicações de plasmas
Beneficiário:Ricardo Magnus Osório Galvão
Pesquisador responsável:Ricardo Magnus Osório Galvão
Instituição: Universidade de São Paulo (USP). Instituto de Física (IF)
Linha de fomento: Auxílio à Pesquisa - Temático