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Neisy Amparo Escobar Forhan

CV Lattes


Universidade de São Paulo (USP). Escola Politécnica (EP)  (Instituição-sede da última proposta de pesquisa)
País de origem: Cuba

Possui graduação em Física Nuclear pelo Instituto de Ciencias y Tecnologías Nucleares/Cuba (1994), mestrado em Engenharia Elétrica pela Universidade de São Paulo (2000) e doutorado em Engenharia Elétrica pela Universidade de São Paulo (2006). Tem experiência em materiais e componentes semicondutores, em processos microeletrônicos e micromecânicos, em ensaios de simulação espacial, vácuo térmicos e climáticos de satélites, equipamentos e componentes. Tem experiência também nas áreas de instrumentação vácuo térmica, climática, nuclear, e eletrônica. Tem atuado principalmente nos seguintes temas: Metrologia - Área de Aplicação em Testes Vácuo Térmicos e Climáticos de Satélites, Tecnologias MEMS, Sensores Inerciais, Sensores Semicondutores de Radiação Nuclear, Crescimento e Deposição de Materiais (SiO2, SiC, metais), e fabricação de Heteroestruturas SOI (Silicon on Insulator) e SiCOI (Silicon Carbide on Insulator). Tem domínio da tecnologia Smart Cut, solda direta em silício, técnicas de obtenção de filmes finos (PECVD, CVD, eletrodeposição, crescimento térmico e anódico, evaporação), difusão em fornos, implantação iônica, técnicas de vácuo, fotolitografia, limpezas químicas, técnicas de microfabricação (corrosão úmida e por plasma), preparação de amostras para microscopia eletrônica e técnicas de caracterização de materiais (elétrica, FTIR, DRX, Raman, TEM, SEM). (Fonte: Currículo Lattes)

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Palavras-chave utilizadas pelo pesquisador
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(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)

NEISY A. E. FORHAN; MÁRCIA C. A. FANTINI; INÉS PEREYRA. Characterization of Si1-xCx:H thin films deposited by PECVD for SiCOI heterojuntion fabrication. Journal of the Brazilian Chemical Society, v. 17, n. 6, p. 1158-1162, . (01/09404-0)

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