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Rodrigo Savio Pessoa

CV Lattes GoogleMyCitations ResearcherID ORCID


Universidade Brasil. Campus São Paulo  (Instituição-sede da última proposta de pesquisa)
País de origem: Brasil

Possui graduação em Física pela Universidade Estadual Paulista Júlio de Mesquita Filho (2003), mestrado (2005) e doutorado (2009) em Ciências na área de Física de Plasmas pelo Instituto Tecnológico de Aeronáutica. Atualmente é professor do Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA) e professor colaborador na Universidade Brasil e na Universidade Estadual Paulista "Julio de Mesquita Filho" (UNESP). Tem experiência na área de Física, com ênfase em Física de Plasmas e Física da Matéria Condensada, e nas áreas de Engenharia Aeroespacial e Engenharia Biomédica, atuando principalmente nos seguintes temas: processos de deposição de filmes finos (physical vapor deposition, chemical vapor deposition, atomic layer deposition) e corrosão de materiais por plasmas (reactive ion etching, inductively coupled plasma, catodo oco), tratamento de superfícies por plasmas (plasma microondas, microplasmas), técnicas de caracterização de materiais, técnicas de diagnóstico do plasma, simulação de plasmas frios, tecnologias assistidas a plasmas para engenharia biomédica e células solares. Tem interesse em novos tipos de reatores a plasmas, materiais e processos para microeletrônica e nanotecnologia, engenharia aeronáutica/aeroespacial, fontes de energia renovável com foco no desenvolvimento de novos materiais, dispositivos micro-eletromecânicos (MEMS) e aplicações de plasma na medicina e agricultura. Nestes temas e em temas correlatos orienta/co-orienta 2 trabalhos de mestrado e 8 de doutorado. Possui 2 patentes, 83 artigos, 16 capítulos de livro publicados e 2 livros editados, mais de 290 trabalhos publicados em anais de conferências nacionais e internacionais. Índice H = 12 (Scopus) e H = 15 (Google Scholar). (Fonte: Currículo Lattes)

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Pesquisadores produzem material nanoestruturado com potencial de uso em catalisadores e filtros 
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Palavras-chave utilizadas pelo pesquisador
Publicações resultantes de Auxílios e Bolsas sob responsabilidade do(a) pesquisador(a) (10)

(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)

Publicações9
Citações61
Cit./Artigo6,8
Dados do Web of Science

PESSOA, R. S.; DOS SANTOS, V. P.; CARDOSO, S. B.; DORIA, A. C. O. C.; FIGUEIRA, F. R.; RODRIGUES, B. V. M.; TESTONI, G. E.; FRAGA, M. A.; MARCIANO, F. R.; LOBO, A. O.; et al. TiO2 coatings via atomic layer deposition on polyurethane and polydimethylsiloxane substrates: Properties and effects on C. albicans growth and inactivation process. Applied Surface Science, v. 422, p. 73-84, . Citações Web of Science: 8. (15/05956-0, 15/08523-8, 11/17877-7, 16/00575-1, 15/10876-6, 11/20345-7, 11/50773-0, 15/09697-0, 12/15857-1)

CHIAPPIM, W.; TESTONI, G. E.; MORAES, R. S.; PESSOA, R. S.; SAGAS, J. C.; ORIGO, F. D.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S.. Structural, morphological, and optical properties of TiO2 thin films grown by atomic layer deposition on fluorine doped tin oxide conductive glass. VACUUM, v. 123, p. 91-102, . Citações Web of Science: 21. (15/05956-0, 11/50773-0)

CHIAPPIM, W.; TESTONI, G. E.; DE LIMA, J. S. B.; MEDEIROS, H. S.; PESSOA, RODRIGO SAVIO; GRIGOROV, K. G.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S.. Effect of Process Temperature and Reaction Cycle Number on Atomic Layer Deposition of TiO2 Thin Films Using TiCl4 and H2O Precursors: Correlation Between Material Properties and Process Environment. Brazilian Journal of Physics, v. 46, n. 1, p. 56-69, . Citações Web of Science: 11. (15/05956-0, 11/50773-0)

TESTONI, G. E.; CHIAPPIM, W.; PESSOA, R. S.; FRAGA, M. A.; MIYAKAWA, W.; SAKANE, K. K.; GALVAO, N. K. A. M.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S.. Influence of the Al2O3 partial-monolayer number on the crystallization mechanism of TiO2 in ALD TiO2/Al2O3 nanolaminates and its impact on the material properties. JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS, v. 49, n. 37, . Citações Web of Science: 11. (15/05956-0, 11/50773-0)

CHIAPPIM, W.; TESTONI, G. E.; DORIA, A. C. O. C.; PESSOA, R. S.; FRAGA, M. A.; GALVAO, N. K. A. M.; GRIGOROV, K. G.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S.. Relationships among growth mechanism, structure and morphology of PEALD TiO2 films: the influence of O-2 plasma power, precursor chemistry and plasma exposure mode. Nanotechnology, v. 27, n. 30, . Citações Web of Science: 9. (15/05956-0, 11/50773-0, 15/10876-6)

ANELISE CRISTINA OSÓRIO CESAR DORIA; CAMILA DI PAULA COSTA SORGE; THAISA BAESSO SANTOS; JHONATAN BRANDÃO; POLYANA ALVES RADI GONÇALVES; HOMERO SANTIAGO MACIEL; SÔNIA KHOURI; RODRIGO SÁVIO PESSOA. Application of post-discharge region of atmospheric pressure argon and air plasma jet in the contamination control of Candida albicans biofilms. Res. Biomed. Eng., v. 31, n. 4, p. 358-362, . (11/50773-0, 15/10876-6)

TONELI, D. A.; PESSOA, R. S.; ROBERTO, M.; GUDMUNDSSON, J. T.. A global model study of low pressure high density CF4 discharge. PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY, v. 28, n. 2, . Citações Web of Science: 0. (18/01265-1, 15/16471-8)

DIAS, VANESSA; MACIEL, HOMERO; FRAGA, MARIANA; LOBO, ANDERSON O.; PESSOA, RODRIGO; MARCIANO, FERNANDA R.. Atomic Layer Deposited TiO2 and Al2O3 Thin Films as Coatings for Aluminum Food Packaging Application. MATERIALS, v. 12, n. 4, . Citações Web of Science: 0. (15/05956-0, 11/17877-7, 16/00575-1, 15/10876-6, 11/20345-7, 11/50773-0, 14/18139-8, 18/01265-1, 12/15857-1, 15/09697-0)

GALVAO, NIERLLY; VASCONCELOS, GETULIO; PESSOA, RODRIGO; MACHADO, JOAO; GUERINO, MARCIEL; FRAGA, MARIANA; RODRIGUES, BRUNO; CAMUS, JULIEN; DJOUADI, ABDOU; MACIEL, HOMERO. A Novel Method of Synthesizing Graphene for Electronic Device Applications. MATERIALS, v. 11, n. 7, . Citações Web of Science: 1. (18/01265-1, 11/50773-0, 14/18139-8, 17/18826-3)

GALVAO, NIERLLY; GUERINO, MARCIEL; CAMPOS, TIAGO; GRIGOROV, KORNELI; FRAGA, MARIANA; RODRIGUES, BRUNO; PESSOA, RODRIGO; CAMUS, JULIEN; DJOUADI, MOHAMMED; MACIEL, HOMERO. The Influence of AlN Intermediate Layer on the Structural and Chemical Properties of SiC Thin Films Produced by High-Power Impulse Magnetron Sputtering. MICROMACHINES, v. 10, n. 3, . Citações Web of Science: 0. (18/01265-1, 11/50773-0, 14/18139-8)

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