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Rodrigo Savio Pessoa

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Ministério da Defesa (Brasil). Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA). Divisão de Ciências Fundamentais (IEF)  (Instituição-sede da última proposta de pesquisa)
País de origem: Brasil

Possui graduação em Física pela Universidade Estadual Paulista Júlio de Mesquita Filho (2003), mestrado (2005) e doutorado (2009) em Ciências na área de Física de Plasmas pelo Instituto Tecnológico de Aeronáutica. Atualmente é professor do Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA) e professor colaborador na Universidade Estadual Paulista "Julio de Mesquita Filho" (UNESP) e na Universidade Brasil. Tem experiência na área de Física, com ênfase em Física de Plasmas e Física da Matéria Condensada, e nas áreas de Engenharia Aeroespacial e Engenharia Biomédica, atuando principalmente nos seguintes temas: processos de deposição de filmes finos (physical vapor deposition, chemical vapor deposition, atomic layer deposition) e corrosão de materiais por plasmas (reactive ion etching, inductively coupled plasma, catodo oco), tratamento de superfícies por plasmas (plasma microondas, microplasmas), técnicas de caracterização de materiais, técnicas de diagnóstico do plasma, simulação de plasmas frios, tecnologias assistidas a plasmas para engenharia biomédica e células solares. Tem interesse em novos tipos de reatores a plasmas, materiais e processos para microeletrônica e nanotecnologia, engenharia aeronáutica/aeroespacial, fontes de energia renovável com foco no desenvolvimento de novos materiais, dispositivos micro-eletromecânicos (MEMS) e aplicações de plasma na medicina e agricultura. Nestes temas e em temas correlatos orientou 11 trabalhos de mestrado e 9 de doutorado. Possui 2 patentes, 98 artigos, 22 capítulos de livro publicados e 3 livros editados, mais de 320 trabalhos publicados em anais de conferências nacionais e internacionais. Índice H = 16 (Scopus) e H = 18 (Google Scholar). (Fonte: Currículo Lattes)

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Palavras-chave utilizadas pelo pesquisador
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(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)

Publicações17
Citações63
Cit./Artigo3,7
Dados do Web of Science

ANELISE CRISTINA OSÓRIO CESAR DORIA; CAMILA DI PAULA COSTA SORGE; THAISA BAESSO SANTOS; JHONATAN BRANDÃO; POLYANA ALVES RADI GONÇALVES; HOMERO SANTIAGO MACIEL; SÔNIA KHOURI; RODRIGO SÁVIO PESSOA. Application of post-discharge region of atmospheric pressure argon and air plasma jet in the contamination control of Candida albicans biofilms. Res. Biomed. Eng., v. 31, n. 4, p. 358-362, . (11/50773-0, 15/10876-6)

DIAS, VANESSA; MACIEL, HOMERO; FRAGA, MARIANA; LOBO, ANDERSON O.; PESSOA, RODRIGO; MARCIANO, FERNANDA R.. Atomic Layer Deposited TiO2 and Al2O3 Thin Films as Coatings for Aluminum Food Packaging Application. MATERIALS, v. 12, n. 4, . Citações Web of Science: 1. (15/10876-6, 18/01265-1, 11/17877-7, 14/18139-8, 15/09697-0, 11/20345-7, 16/00575-1, 12/15857-1, 11/50773-0, 15/05956-0)

DE SOUZA, P. R. F.; SOUZA, G. C. C.; PINTO, J. V. F. A.; DORIA, A. C. O. C.; NASCIMENTO, L. M.; GOMES, M. C.; DA SILVA SOBRINHO, A. S.; PETRACONI, G.; SAGAS, J. C.; RODRIGUES, B. V. M.; et al. Effect of Ozone Exposure on Water Uptake and Germination of Lentil (Lens Culinaris) Seeds. OZONE-SCIENCE & ENGINEERING, v. 43, n. 1, . Citações Web of Science: 0. (18/01265-1)

CHIAPPIM, W.; TESTONI, G. E.; DORIA, A. C. O. C.; PESSOA, R. S.; FRAGA, M. A.; GALVAO, N. K. A. M.; GRIGOROV, K. G.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S.. Relationships among growth mechanism, structure and morphology of PEALD TiO2 films: the influence of O-2 plasma power, precursor chemistry and plasma exposure mode. Nanotechnology, v. 27, n. 30, . Citações Web of Science: 8. (15/10876-6, 11/50773-0, 15/05956-0)

CHIAPPIM, W.; TESTONI, G. E.; MORAES, R. S.; PESSOA, R. S.; SAGAS, J. C.; ORIGO, F. D.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S.. Structural, morphological, and optical properties of TiO2 thin films grown by atomic layer deposition on fluorine doped tin oxide conductive glass. VACUUM, v. 123, p. 91-102, . Citações Web of Science: 19. (11/50773-0, 15/05956-0)

DIAS, V. M.; CHIAPPIM, W.; FRAGA, M. A.; MACIEL, H. S.; MARCIANO, F. R.; PESSOA, R. S.. Atomic layer deposition of TiO2 and Al2O3 thin films for the electrochemical study of corrosion protection in aluminum alloy cans used in beverage. MATERIALS RESEARCH EXPRESS, v. 7, n. 7, . Citações Web of Science: 0. (18/01265-1, 14/18139-8, 16/17826-7)

GALVAO, NIERLLY; VASCONCELOS, GETULIO; PESSOA, RODRIGO; MACHADO, JOAO; GUERINO, MARCIEL; FRAGA, MARIANA; RODRIGUES, BRUNO; CAMUS, JULIEN; DJOUADI, ABDOU; MACIEL, HOMERO. A Novel Method of Synthesizing Graphene for Electronic Device Applications. MATERIALS, v. 11, n. 7, . Citações Web of Science: 1. (14/18139-8, 11/50773-0, 18/01265-1, 17/18826-3)

CHIAPPIM, W.; TESTONI, G. E.; DE LIMA, J. S. B.; MEDEIROS, H. S.; PESSOA, RODRIGO SAVIO; GRIGOROV, K. G.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S.. Effect of Process Temperature and Reaction Cycle Number on Atomic Layer Deposition of TiO2 Thin Films Using TiCl4 and H2O Precursors: Correlation Between Material Properties and Process Environment. Brazilian Journal of Physics, v. 46, n. 1, p. 56-69, . Citações Web of Science: 11. (11/50773-0, 15/05956-0)

PESSOA, R. S.; DOS SANTOS, V. P.; CARDOSO, S. B.; DORIA, A. C. O. C.; FIGUEIRA, F. R.; RODRIGUES, B. V. M.; TESTONI, G. E.; FRAGA, M. A.; MARCIANO, F. R.; LOBO, A. O.; et al. TiO2 coatings via atomic layer deposition on polyurethane and polydimethylsiloxane substrates: Properties and effects on C. albicans growth and inactivation process. Applied Surface Science, v. 422, p. 73-84, . Citações Web of Science: 10. (15/10876-6, 11/17877-7, 15/09697-0, 11/20345-7, 15/08523-8, 16/00575-1, 12/15857-1, 11/50773-0, 15/05956-0)

TESTONI, G. E.; CHIAPPIM, W.; PESSOA, R. S.; FRAGA, M. A.; MIYAKAWA, W.; SAKANE, K. K.; GALVAO, N. K. A. M.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S.. Influence of the Al2O3 partial-monolayer number on the crystallization mechanism of TiO2 in ALD TiO2/Al2O3 nanolaminates and its impact on the material properties. JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS, v. 49, n. 37, . Citações Web of Science: 11. (11/50773-0, 15/05956-0)

TONELI, D. A.; PESSOA, R. S.; ROBERTO, M.; GUDMUNDSSON, J. T.. A global model study of low pressure high density CF4 discharge. PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY, v. 28, n. 2, . Citações Web of Science: 1. (15/16471-8, 18/01265-1)

GALVAO, NIERLLY; GUERINO, MARCIEL; CAMPOS, TIAGO; GRIGOROV, KORNELI; FRAGA, MARIANA; RODRIGUES, BRUNO; PESSOA, RODRIGO; CAMUS, JULIEN; DJOUADI, MOHAMMED; MACIEL, HOMERO. The Influence of AlN Intermediate Layer on the Structural and Chemical Properties of SiC Thin Films Produced by High-Power Impulse Magnetron Sputtering. MICROMACHINES, v. 10, n. 3, . Citações Web of Science: 0. (18/01265-1, 11/50773-0, 14/18139-8)

JUNIOR, ARMSTRONG GODOY; PEREIRA, ANDRE; GOMES, MARCILENE; FRAGA, MARIANA; PESSOA, RODRIGO; LEITE, DOUGLAS; PETRACONI, GILBERTO; NOGUEIRA, ADAILTON; WENDER, HEBERTON; MIYAKAWA, WALTER; et al. Black TiO2 Thin Films Production Using Hollow Cathode Hydrogen Plasma Treatment: Synthesis, Material Characteristics and Photocatalytic Activity. CATALYSTS, v. 10, n. 3, . Citações Web of Science: 0. (18/01265-1, 15/06241-5)

CHIAPPIM, WILLIAM; FRAGA, MARIANA AMORIM; MACIEL, HOMERO SANTIAGO; PESSOA, RODRIGO SAVIO. An Experimental and Theoretical Study of the Impact of the Precursor Pulse Time on the Growth Per Cycle and Crystallinity Quality of TiO2 Thin Films Grown by ALD and PEALD Technique. FRONTIERS IN MECHANICAL ENGINEERING-SWITZERLAND, v. 6, . Citações Web of Science: 0. (16/17826-7, 11/50773-0, 18/01265-1)

CHIAPPIM, WILLIAM; SAMPAIO, ALINE; MIRANDA, FELIPE; PETRACONI, GILBERTO; DA SILVA SOBRINHO, ARGEMIRO; CARDOSO, PAULO; KOSTOV, KONSTANTIN; KOGA-ITO, CRISTIANE; PESSOA, RODRIGO. Nebulized plasma-activated water has an effective antimicrobial effect on medically relevant microbial species and maintains its physicochemical properties in tube lengths from 0.1 up to 1.0 m. Plasma Processes and Polymers, v. 18, n. 11, . Citações Web of Science: 1. (20/10450-7, 19/05856-7, 19/25652-7)

CHIAPPIM, WILLIAM; TESTONI, GIORGIO; MIRANDA, FELIPE; FRAGA, MARIANA; FURLAN, HUMBER; SARAVIA, DAVID ARDILES; SOBRINHO, ARGEMIRO DA SILVA; PETRACONI, GILBERTO; MACIEL, HOMERO; PESSOA, RODRIGO. Effect of Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition on Oxygen Overabundance and Its Influence on the Morphological, Optical, Structural, and Mechanical Properties of Al-Doped TiO2 Coating. MICROMACHINES, v. 12, n. 6, . Citações Web of Science: 0. (20/10450-7, 18/01265-1)

CHIAPPIM, WILLIAM; WATANABE, MARCOS; DIAS, VANESSA; TESTONI, GIORGIO; RANGEL, RICARDO; FRAGA, MARIANA; MACIEL, HOMERO; DOS SANTOS FILHO, SEBASTIAO; PESSOA, RODRIGO. MOS Capacitance Measurements for PEALD TiO2 Dielectric Films Grown under Different Conditions and the Impact of Al2O3 Partial-Monolayer Insertion. NANOMATERIALS, v. 10, n. 2, . Citações Web of Science: 0. (18/01265-1, 15/05956-0, 11/50773-0, 15/10876-6, 16/17826-7)

CHIAPPIM, WILLIAM; SAMPAIO, ALINE DA GRACA; MIRANDA, FELIPE; FRAGA, MARIANA; PETRACONI, GILBERTO; DA SILVA SOBRINHO, ARGEMIRO; KOSTOV, KONSTANTIN; KOGA-ITO, CRISTIANE; PESSOA, RODRIGO. Antimicrobial Effect of Plasma-Activated Tap Water on Staphylococcus aureus, Escherichia coli, and Candida albicans. WATER, v. 13, n. 11, . Citações Web of Science: 0. (20/10450-7, 19/25652-7, 18/01265-1, 19/05856-7)

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