Maria Cecília Barbosa da Silveira Salvadori - BV FAPESP
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Maria Cecília Barbosa da Silveira Salvadori

CV Lattes ORCID


Universidade de São Paulo (USP). Instituto de Física (IF)  (Instituição Sede da última proposta de pesquisa)
País de origem: Brasil

Possui Bacharelado em Física pelo Instituto de Física da USP (1980), Mestrado em Física Nuclear (1984), Doutorado em Ciências pelo Instituto de Física da USP (1988) e Pós-Dotorado em Lawrence Berkeley Laboratory (1990). Atualmente é Professora Associada, nivel 3, do Instituto de Física da USP. É coordenadora do Laboratório de Filmes Finos, cuja infra-estrutura é constituída por dois sistemas de deposição de filmes finos, quatro equipamentos para caracterização, infra-estrutura para realização de micro e nanofabricação e cultura celular. Um dos sistemas de deposição de filmes é um reator CVD (Chemical Vapor Deposition) para síntese de filmes de diamante e nanotubos; o outro sistema, denominado Metal Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition, possibilita a deposição de metais, ligas metálicas, óxidos, nitretos, carbetos e diamondlike carbon. Os equipamentos para caracterização são: um Scanning Probe Microscope com acessórios para microscopia de força atômica (AFM), microscopia de tunelamento (STM), microscopia de força magnética (MFM), microscopia de força elétrica (MFE), célula para amostras imersas fluidos, célula eletroquímica, cabeçote para atmosfera controlada e software para nanolitografia; um Microscópio Eletrônico de Varredura com microanálise e acessório para nanolitografia; um microscópio ótico da Olympus de reflexão e transmissão, modelo BX51 TRF, com aumento até 5.000 vezes, câmera CCD e software para aquisição de imagem; e um sistema para medida de ângulo de contato, energia superficial de sólidos e tensão superficial de líquidos. A principal linha de pesquisa consiste no estudo de micro e nanoestruturas em filmes finos e modificação de superfícies. (Fonte: Currículo Lattes)

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Palavras-chave utilizadas pelo pesquisador
Alumina Aquisição de equipamentos Bioengenharia Bocais Carbono Células epiteliais Ciências Exatas e da Terra Colaboração científica Crescimento Culicidae Cultura de células Deposição de filmes finos Deposição química em fase de vapor assistida por plasma (PECVD) Deposição química por vapor CVD Desenvolvimento de novos materiais Diamante Diamantes CVD Engenharia Elétrica Engenharia de Materiais e Metalúrgica Engenharias Equipamentos e provisões Espectroscopia Raman Ferramentas de corte Filmes finos de diamante Filmes finos Filmes Física Geral Física da Matéria Condensada Física dos Fluídos, Física de Plasmas e Descargas Elétricas Física Fotolitografia Fractais Fulereno Grafite Implantação iônica Infraestrutura Intercâmbio de pesquisadores Íons metálicos Íons Materiais Elétricos Materiais cerâmicos Materiais nanoestruturados Materiais Melanoma Microestruturas Microfabricação Microscopia de força atômica Microscopia eletrônica de transmissão Microscopia eletrônica de varredura Microscopia eletrônica Microscópio eletrônico Modificação de superfícies Mosquitos Nanocompósitos Nanopartículas Nanotecnologia Nanotubos Neoplasias Paládio Plasma (estados da matéria) Projetos de infraestrutura Propriedades de transporte Propriedades mecânicas Queratinócitos Recobrimentos Recursos para a pesquisa Retroespalhamento Rutherford Rugosidade Sistemas microeletromecânicos Superfície física Técnica de automontagem Titânio Tornos Vibrações
Patente(s) depositada(s)

PROCESSO E DISPOSITIVO PARA A OBTENÇÃO DE MEMBRANA POROSA DE DIAMANTE, MEMBRANA POROSA OBTIDA PELO REFERIDO PROCESSO PI9707107-2 - Fundação de Amparo à Pesquisa do Estado de São Paulo (FAPESP); Universidade de São Paulo (USP). Giorgio Moscati ; Maria Cecília Barbosa da Silveira Salvadori ; Victor Pellegrini Mammana - 11 de novembro de 1997

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