Resumo
A presente proposta envolve a preparação da heterojunção tipo-I entre SnO2 e Ga2O3, comoforma de combinar as bandas de energia na interface entre esses semicondutores óxidos paradesenvolvimento de dispositivos eletrônicos como transistores de efeito de campo (FETs) etransistores bipolares de heterojunção (HBTs). Com amostras preparadas na formapolicristalina por rota química nos laboratór…