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Anelise Cristina Osorio Cesar Doria

CV Lattes GoogleMyCitations ResearcherID ORCID



País de origem: Brasil

Possui graduação em Biomedicina pela Universidade do Vale do Paraíba (2012), mestrado em Engenharia Biomédica pela Universidade do Vale do Paraíba (2015) e doutorado em Engenharia Biomédica pela Universidade do Vale do Paraíba (2019). Tem experiência na área de Microbiologia, atuando principalmente nos seguintes temas: plasma atmosférico, Candida spp, biofilme, polímeros e deposição por camada atômica. (Fonte: Currículo Lattes)

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Apoio FAPESP em números * Quantidades atualizadas em 24/10/2020
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Palavras-chave utilizadas pelo pesquisador
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(Referências obtidas automaticamente do Web of Science e do SciELO, por meio da informação sobre o financiamento pela FAPESP e o número do processo correspondente, incluída na publicação pelos autores)

Publicações4
Citações19
Cit./Artigo4,8
Dados do Web of Science

DIAS, VANESSA; MACIEL, HOMERO; FRAGA, MARIANA; LOBO, ANDERSON O.; PESSOA, RODRIGO; MARCIANO, FERNANDA R.. Atomic Layer Deposited TiO2 and Al2O3 Thin Films as Coatings for Aluminum Food Packaging Application. MATERIALS, v. 12, n. 4, . Citações Web of Science: 1. (15/05956-0, 11/17877-7, 16/00575-1, 15/10876-6, 11/20345-7, 11/50773-0, 14/18139-8, 18/01265-1, 12/15857-1, 15/09697-0)

ANELISE CRISTINA OSÓRIO CESAR DORIA; CAMILA DI PAULA COSTA SORGE; THAISA BAESSO SANTOS; JHONATAN BRANDÃO; POLYANA ALVES RADI GONÇALVES; HOMERO SANTIAGO MACIEL; SÔNIA KHOURI; RODRIGO SÁVIO PESSOA. Application of post-discharge region of atmospheric pressure argon and air plasma jet in the contamination control of Candida albicans biofilms. Res. Biomed. Eng., v. 31, n. 4, p. 358-362, . (11/50773-0, 15/10876-6)

CHIAPPIM, W.; TESTONI, G. E.; DORIA, A. C. O. C.; PESSOA, R. S.; FRAGA, M. A.; GALVAO, N. K. A. M.; GRIGOROV, K. G.; VIEIRA, L.; MACIEL, H. S.. Relationships among growth mechanism, structure and morphology of PEALD TiO2 films: the influence of O-2 plasma power, precursor chemistry and plasma exposure mode. Nanotechnology, v. 27, n. 30, . Citações Web of Science: 8. (15/05956-0, 11/50773-0, 15/10876-6)

PESSOA, R. S.; DOS SANTOS, V. P.; CARDOSO, S. B.; DORIA, A. C. O. C.; FIGUEIRA, F. R.; RODRIGUES, B. V. M.; TESTONI, G. E.; FRAGA, M. A.; MARCIANO, F. R.; LOBO, A. O.; et al. TiO2 coatings via atomic layer deposition on polyurethane and polydimethylsiloxane substrates: Properties and effects on C. albicans growth and inactivation process. Applied Surface Science, v. 422, p. 73-84, . Citações Web of Science: 10. (15/05956-0, 15/08523-8, 11/17877-7, 16/00575-1, 15/10876-6, 11/20345-7, 11/50773-0, 15/09697-0, 12/15857-1)

CHIAPPIM, WILLIAM; WATANABE, MARCOS; DIAS, VANESSA; TESTONI, GIORGIO; RANGEL, RICARDO; FRAGA, MARIANA; MACIEL, HOMERO; DOS SANTOS FILHO, SEBASTIAO; PESSOA, RODRIGO. MOS Capacitance Measurements for PEALD TiO2 Dielectric Films Grown under Different Conditions and the Impact of Al2O3 Partial-Monolayer Insertion. NANOMATERIALS, v. 10, n. 2, . Citações Web of Science: 0. (18/01265-1, 15/05956-0, 11/50773-0, 15/10876-6, 16/17826-7)

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