Resumo
O objetivo principal deste projeto é o desenvolvimento de uma metodologia de litografia ótica de escrita direta baseada em ótica de campo próximo. Esta metodologia usará como ferramenta principal um microscópio ótico em campo próximo (SNOM) desenvolvido em nosso laboratório. Pretendemos explorar a resolução ótica (~100nm) deste equipamento visando produzir estruturas litografadas na escal…