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Juliano Libardi

CV Lattes


Ministério da Defesa (Brasil). Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA). Divisão de Ciências Fundamentais (IEF)  (Instituição Sede da última proposta de pesquisa)
País de origem: Brasil

Realizou pós doutorado no departamento de engenharia elétrica da Faculdade de Ciências e Tecnologia da Universidade de Coimbra (FCTUC) - Portugal (2014-2016). Também realizou pós-doutoramento no laboratório de Plasmas e Processos (LPP) do Departamento de Física do Instituto Tecnológico de Aeronáutica (ITA) (2010-2013). Possui doutorado em Engenharia Química pela Universidade Estadual de Campinas (2009), mestrado em Engenharia Química pela Universidade Estadual de Campinas-Unicamp (2003) e graduação em Engenharia Química pela Escola de Engenharia Química de Lorena EEL-USP (2000). Tem conhecimentos na área de materiais cerâmicos compósitos, óxidos semicondutores, síntese de filmes finos por tecnologia de plasma. Trabalhou, principalmente, nos seguintes temas: desenvolvimento de compósitos cerâmicos para aplicações em sensores de umidade; filmes finos de TiO2 e TiO2 dopado com nitrogênio para aplicações em microeletrônica e células solares. Ao longo da carreira também trabalhou com deposição e caracterização de filmes finos de carbono tipo diamante (DLC) a partir de diferentes precursores; estudou o fenômeno de difusão de plastificantes entre as interfaces isolante térmico e propelente sólido; investigou características elétricas dos capacitores MOS e de estruturas metal-isolante-metal (MIM). Trabalhou com técnicas de caracterização: Espectroscopia de impedância complexa, Microscopia eletrônica de varredura (MEV), Difração de Raio-X, Espectroscopia Raman, micro dureza de filmes finos, perfilometria, microscopia de força atômica, curvas capacitância-tensão e corrente-tensão. (Fonte: Currículo Lattes)

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