TiO2 coatings via atomic layer deposition on polyurethane and polydimethylsiloxane substrates: Properties and effects on C. albicans growth and inactivation process

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Pessoa, R. S. ^{[1, 2, 3, 4]} ; dos Santos, V. P. ^[2] ; Cardoso, S. B. ^[3] ; Doria, A. C. O. C. ^[2] ; Figueira, F. R. ^[2] ; Rodrigues, B. V. M. ^{[3, 4]} ; Testoni, G. E. ^[4] ; Fraga, M. A. ^{[3, 5]} ; Marciano, F. R. ^{[6, 3, 7, 8]} ; Lobo, A. O. ^{[6, 3, 7, 8]} ; Maciel, H. S. ^{[1, 2, 3]}

Afiliação do(s) autor(es)

^[1] Univ Vale Paraiba Univap, Nanotechnol & Plasmas Proc Lab, BR-12244000 Sao Jose Dos Campos, SP - Brazil

^[2] Univ Vale Paraiba Univap, Biotechnol & Elect Plasmas Lab, BR-12244000 Sao Jose Dos Campos, SP - Brazil

^[3] Univ Brasil, Rua Carolina Fonseca 235, BR-08230030 Sao Paulo - Brazil

^[4] Inst Tecnol Aeronout ITA DCTA, Ctr Ciencia & Tecnol Plasmas & Mat PlasMat, BR-12228900 Sao Jose Dos Campos, SP - Brazil

^[5] Inst Nacl Pesquisas Espaciais, Associate Lab Sensors & Mat, BR-12227010 Sao Jose Dos Campos, SP - Brazil

^[6] Northeastern Univ, Dept Chem Engn, Boston, MA 02115 - USA

^[7] Univ Vale Paraiba Univap, Lab Biomed Nanotechnol, BR-12244000 Sao Jose Dos Campos, SP - Brazil

^[8] Harvard Med Sch, Brigham & Womens Hosp, Dept Med, Biomat Innovat Res Ctr, Cambridge, MA 02139 - USA

• Tipo de documento: Artigo Científico
• Fonte: Applied Surface Science; v. 422, p. 73-84, NOV 15 2017.
• Citações Web of Science: 10

Resumo

Atomic layer deposition (ALD) surges as an attractive technology to deposit thin films on different substrates for many advanced biomedical applications. Herein titanium dioxide (TiO2) thin films were successful obtained on polyurethane (PU) and polydimethylsiloxane (PDMS) substrates using ALD. The effect of TiO2 films on Candida albicans growth and inactivation process were also systematic discussed. TiCl4 and H2O were used as precursors at 80 degrees C, while the reaction cycle number ranged from 500 to 2000. Several chemical, physical and physicochemical techniques were used to evaluate the growth kinetics, elemental composition, material structure, chemical bonds, contact angle, work of adhesion and surface morphology of the ALD TiO2 thin films grown on both substrates. For microbiological analyses, yeasts of standard strains of C. albicans were grown on non-and TiO2-coated substrates. Next, the antifungal and photocatalytic activities of the TiO2 were also investigated by counting the colony-forming units (CFU) before and after UV-light treatment. Chlorine-doped amorphous TiO2 films with varied thicknesses and Cl concentration ranging from 2 to 12% were obtained. In sum, the ALD TiO2 films suppressed the yeast-hyphal transition of C. albicans onto PU, however, a high adhesion of yeasts was observed. Conversely, for PDMS substrate, the yeast adhesion did not change, as observed in control. Comparatively to control, the TiO2-covered PDMS had a reduction in CFU up to 59.5% after UV treatment, while no modification was observed to TiO2-covered PU. These results pointed out that ALD chlorine-doped amorphous TiO2 films grown on biomedical polymeric surfaces may act as fungistatic materials. Furthermore, in case of contamination, these materials may also behave as antifungal materials under UV light exposure. (C) 2017 Published by Elsevier B.V. (AU)

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